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Monografia C i t d N fi d ZO C i t d N fi d ZO Crescimento de Nanofios de ZnO Crescimento de Nanofios de ZnO Emissão de Campo Emissão de Campo JOÃO W. L. DE OLIVEIRA JOÃO W. L. DE OLIVEIRA Daniel L. Baptista (Orientador) Daniel L. Baptista (Orientador) Daniel L. Baptista (Orientador) Daniel L. Baptista (Orientador) José R. Galvão José R. Galvão André L. F. André L. F. Cauduro Cauduro Henri I. Henri I. Boudinov Boudinov PGMicro – UFRGS - PROGRAMA DE PÓS-GRADUAÇÃO EM MICROELETRÔNICA VII Mostra da Pós-Graduação do Instituto de Física da UFRGS PORTO ALEGRE, AGOSTO DE 2008

CitdN fidZOCrescimento de Nanofios de ZnO · Objetivos Controle do Crescimento e Reprodutibilidade dos Nanofios de ZnO; Nanolitografia para Crescimento de Nanofios Localizados: •

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  • Monografia

    C i t d N fi d Z OC i t d N fi d Z OCrescimento de Nanofios de ZnOCrescimento de Nanofios de ZnOEmissão de CampoEmissão de Campopp

    JOÃO W. L. DE OLIVEIRAJOÃO W. L. DE OLIVEIRADaniel L. Baptista (Orientador)Daniel L. Baptista (Orientador)Daniel L. Baptista (Orientador)Daniel L. Baptista (Orientador)

    José R. Galvão José R. Galvão André L. F. André L. F. CauduroCauduroHenri I. Henri I. BoudinovBoudinov

    PGMicro – UFRGS - PROGRAMA DE PÓS-GRADUAÇÃO EM MICROELETRÔNICA

    VII Mostra da Pós-Graduação do Instituto de Física da UFRGS PORTO ALEGRE, AGOSTO DE 2008

  • SumárioSumário

    Introdução;Emissão por campo;Emissão por campo;Crescimento dos nanofios de ZnO;Litografia;AplicaçõesAplicações.

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  • Introdução

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  • ObjetivosObjetivosObjetivosObjetivosControle do Crescimento e Reprodutibilidade dos Nanofios de ZnO;Nanolitografia para Crescimento de Nanofios Localizados:

    ô• Microscopia de Força Atômica (AFM);•• Litografia por Litografia por Íons Individuais;

    Lit fi Lit fi MiMi f if i Iô iIô i•• Litografia por Litografia por MicroMicro--feixefeixe Iônico.Iônico.

    Emissão por campo com Nanofio de ZnO;Fl t D Ilh d M t i• Floresta Densa, Ilhas espaçadas, Matrizes.

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  • Emissão por Campo

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  • Emissão por CampoEmissão por Campo

    Emissão de elétron por efeito de campo;p ;• de dentro de um sólido para o vácuo;

    Campo elétrico intenso;Campo elétrico intenso;Cátodo frio;;Equação de Fowler-Nordheim(1928);

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  • Emissor de elétrons (Emissor de elétrons (nanofionanofio//nanotubonanotubo))Emissor de elétrons (Emissor de elétrons (nanofionanofio//nanotubonanotubo))

    MicrocátodoGate (poly-Si)

    Insulator (SiO2)

    Emitter (CNT)Emitter (CNT)

    0.8µmEmitter electrode(TiW/Mo/TiW)SiO2 ( )

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  • Modelo para emissão de elétronsModelo para emissão de elétrons

    Sem Campo Com CampoExcitação Tunelamento

    Energia Potencial

    TérmicaTunelamento

    Vácuo Vá

    Metal

    Vácuo

    Metal

    Vácuo

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  • Modelo para emissão de elétronse 12

    Modelo para emissão de elétronsEvac

    Metal Vácuo

    xπεeEU(x) vac

    116 0

    −−=Função

    trabalho

    eeFxEU(x) 12−

    =Φxπε

    eFxEU(x) vac 16 0−−=Φ

    EFUmáx

    EF

    21

    3 ⎞⎛ FPGMicro – UFRGS - PROGRAMA DE PÓS-GRADUAÇÃO EM MICROELETRÔNICA

    2

    0

    3

    4)( ⎟⎟

    ⎞⎜⎜⎝

    ⎛−−=Φ

    πεFeEEF Fvacefφφ Δ−=Φ )(Fef

  • Aumento do CampoAumento do CampoAumento do CampoAumento do Campo

    Formato da Ponta de Emissão:Melhor PiorMelhor Pior

    (a) Cilíndrico; (b) Pirâmide; ( ) S i E f id l (d) Pi id l

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    (c) Semi-Esferoidal; (d) Piramidal.

  • Esquema de MedidaEsquema de MedidaG d d Si 3 d

    2 mm

    Grade de Si - 3 mm de diâmetro;Vg negativo, E(fonte)=

    2 mm

    g ega o, ( o e)Vg/100 µm;• Vg 0 – 1000 V.

    Filt o de elét ons

    3 mm10 mm

    Filtro de elétrons secundário -200 V;Va= +80 V; 3 mm

    100 µmSiIa ~ 1pA.

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  • Corrente X Tensão0.01

    0.1

    ZnO nanowires on Si70

    1E 4

    1E-370 μm gap

    1E-5

    1E-4

    A)

    1E-7

    1E-6 I (A

    1E 9

    1E-8

    0.0 3 0x106 6 0x106 9 0x106 1 2x107 1 5x1071E-10

    1E-9

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    0.0 3.0x10 6.0x10 9.0x10 1.2x10 1.5x10

    E (V/m)

  • Equação de Fowler NordheimEquação de Fowler-Nordheim⎞⎛ Φ⎞⎛ 5176 104464101051⎟⎟⎠

    ⎞⎜⎜⎝

    ⎛ Φ×−⎟⎠⎞

    ⎜⎝⎛

    ΦΦ×

    =−

    ββ

    aplapl EEAI

    5,1722

    6 1044,6exp4,10exp105,1

    I C t d i (A)

    ⎠⎝

    I- Corrente do emissor (A);A- Área aparente de emissão (cm²);• 1,4x10-7 cm² (matriz) e 3x10-8 cm²., ( )

    Eapl- Tensão aplicada (V/cm);Φ- Função de trabalho do emissor (eV);• 4,9 eV nanotubo - multicamada.

    β- Fator de campo aparente.

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  • Densidade de NanotubosDensidade de NanotubosDensidade de NanotubosDensidade de NanotubosField shielding effecte d s e d g e ect

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    Tubos alinhados são mais eficientes para aplicações de emissão de campo.

  • Distância IdealDistância Ideal

    a) Distância/Altura= 6 b) Distância/Altura= 2

    c) Distância/Altura= 1 d) Distância/Altura= 0,4c) Distância/Altura 1 d) Distância/Altura 0,4

    PGMicro – UFRGS - PROGRAMA DE PÓS-GRADUAÇÃO EM MICROELETRÔNICANanotubo Distância/Altura

  • Densidade de NanotubosDensidade de NanotubosFloresta densa: 109/cm²;Tubos espaçados: 107/cm²;Matriz: 106/cm²;• ~5 µm altura.5 µm altura.

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  • Corrente X TensãoCorrente X TensãoM i Matriz: menor campo elétrico aplicado com a FNmaior corrente que passa pelo anodo;;β - 250 – 1500.

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  • Crescimento dos nanofiosd Z Ode ZnO

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  • Crescimento de NanofioCrescimento de NanofioMetal Metal catalisadorcatalisador (Au, Sn, Cu)(Au, Sn, Cu)EspessuraEspessura dos filmes finos de catalisador, 1dos filmes finos de catalisador, 1--101010nm;10nm;Fluxo de Fluxo de gásgás entre 10entre 10--100 sccm;100 sccm;P ãP ã (1(1 20 b )20 b )PressãoPressão (1(1--20 mbar)20 mbar)Concentração relativa de Concentração relativa de pópó de grafitede grafite e e ZnOZnO;;Gá d 2/O2 (2 %) /O2Gá d 2/O2 (2 %) /O2Gás de transporte N2/O2 (21%) ou Ar/O2;Gás de transporte N2/O2 (21%) ou Ar/O2;TemperaturaTemperatura do substrato (500 do substrato (500 –– 900 900 °°C).C).

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  • Crescimento de Nanofios SemicondutoresCrescimento de Nanofios Semicondutores

    Síntese

    Mecanismo Vapor-líquido-sólido (VLS)

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  • Crescimento de Nanofio ZnOCrescimento de Nanofio ZnO

    ZnO(sólido) + C(sólido) ↔ Zn(vapor) + CO(vapor) (T>970 °C)

    Fluxo de O2

    Zn(vapor) Zn(vapor)

    Fio2 C + O2 = 2 CO

    Au Au Crescimento2 CO + O2 = 2 CO2

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    2 Zn + O2 = 2 ZnOYang, P., Yan H., Adv. Mater. 2002 12 323.

  • Floresta de NanofiosFloresta de NanofiosTemperaturaTemperatura de crescimento dos nanofios de ZnO: 830°C

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  • Morfologias

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  • PatterningLithography

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  • NanolitografiaNanolitografia por íons individuaispor íons individuaisNanolitografiaNanolitografia por íons individuaispor íons individuais

    Poros em PMMAPoros em PMMA(máscara)

    diâmetro ~25 nm

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  • NanofiosNanofios Individuais deIndividuais de ZnOZnONanofiosNanofios Individuais de Individuais de ZnOZnO

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  • Aplicação

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  • AplicaçõesAplicaçõesAplicaçõesAplicações

    Mostradores delgados;Mostradores delgados;Microscópio por feixe de elétron;Microscópio por feixe de elétron;Microscópio por feixe de elétron;Microscópio por feixe de elétron;NanolitografiaNanolitografia;;Amplificador de Microonda Amplificador de Microonda (compacto);(compacto);(compacto);(compacto);Tubos de RaioTubos de Raio--X (portátil).X (portátil).

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  • Mostrador por Emissão de Mostrador por Emissão de CampoCampo

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  • Monitor Motorola 15”Monitor Motorola 15”Monitor Motorola 15Monitor Motorola 15

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  • Crescimento deCrescimento de NanofioNanofio dede ZnOZnOCrescimento de Crescimento de NanofioNanofio de de ZnOZnOEmissão por CampoEmissão por Campop pp p

    Obrigado!Obrigado!gg

    [email protected]@gmail.com08/08/200808/08/2008

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    08/08/200808/08/2008