1
REVESTIMENTO PVD DECORATIVO ESPECIFICAÇÕES TÉCNICAS A tecnologia de revesmento decoravo por PVD (Physical Vapor Deposion) consiste num revesmento cerâmico fino, com espessura controlada entre 0,5 e 1,5μm, de elevada aderência, depositado por plasma altamente ionizado, numa câmara de alto vácuo. Dependendo da aplicação desejada e do material do substrato, as caracteríscas como a temperatura de deposição, dureza, espessura, estrutura e outras sofrem algumas variações. Este revesmento mantém o acabamento original das peças, seja este: mate, escovado, brilhante ou outro. DADOS TÉCNICOS Temperaturas do processo variam entre 190º e os 300ºC, não excedendo os limites suportados pelos materiais do substrato; Elevada dureza superficial (aprox. 2000HV) seis vezes superior à dureza pica do aço; Quimicamente muito resistente e estável: inerte e não tóxico; Analérgico: proteção do contacto humano direto com o substrato, evitando reações alérgicas a diferentes componentes, como o níquel; Compabilidade com a indústria alimentar e materiais cirúrgicos, reduzindo significavamente a adesão e proliferação bacteriana; Processo e Produtos não poluentes: Eco-friendly Coang; Redução do coeficiente de atrito; Elevada aderência; Resistência ao desgaste e à corrosão, aumentando o período de vida úl das peças; Resistência aos ultra-violeta; Diversidade e reprodubilidade de cores: adequado para produção em série; Flexibilidade para diversos formatos, tamanhos e quandades; aplicável em qualquer acabamento superficial da peça; A gravação a laser é possível antes ou depois de revesr. MATERIAIS DE SUBSTRATO Aço, Aço Inoxidável, Alumínio, Latão, Zamak, cerâmica, plásco ABS LIMITAÇÕES Materiais de Substrato Dimensões Ø1100 X h1100mm CORES PADRÃO

REVESTIMENTO PVD DECORATIVO ESPECIFICAÇÕES TÉCNICAS

  • Upload
    others

  • View
    1

  • Download
    0

Embed Size (px)

Citation preview

Page 1: REVESTIMENTO PVD DECORATIVO ESPECIFICAÇÕES TÉCNICAS

REVESTIMENTO PVD DECORATIVO

ESPECIFICAÇÕES TÉCNICAS

A tecnologia de reves�mento decora�vo por PVD (Physical Vapor Deposi�on) consiste num

reves�mento cerâmico fino, com espessura controlada entre 0,5 e 1,5μm, de elevada aderência,

depositado por plasma altamente ionizado, numa câmara de alto vácuo. Dependendo da aplicação desejada e do material do substrato, as caracterís�cas como a temperatura

de deposição, dureza, espessura, estrutura e outras sofrem algumas variações. Este reves�mento mantém o acabamento original das peças, seja este: mate, escovado, brilhante ou

outro.

DADOS TÉCNICOS Temperaturas do processo variam entre 190º e os 300ºC,

não excedendo os limites suportados pelos materiais do

substrato; Elevada dureza superficial (aprox. 2000HV) seis vezes

superior à dureza �pica do aço; Quimicamente muito resistente e estável: inerte e não

tóxico; An�alérgico: proteção do contacto humano direto com o

substrato, evitando reações alérgicas a diferentes

componentes, como o níquel; Compa�bilidade com a indústria alimentar e materiais

cirúrgicos, reduzindo significa�vamente a adesão e

proliferação bacteriana; Processo e Produtos não poluentes: Eco-friendly Coa�ng; Redução do coeficiente de atrito; Elevada aderência; Resistência ao desgaste e à corrosão, aumentando o

período de vida ú�l das peças; Resistência aos ultra-violeta; Diversidade e reprodu�bilidade de cores: adequado para

produção em série; Flexibilidade para diversos formatos, tamanhos e

quan�dades; aplicável em qualquer acabamento superficial da peça; A gravação a laser é possível antes ou depois de reves�r.

MATERIAIS DE SUBSTRATO

Aço, Aço Inoxidável, Alumínio,

Latão, Zamak, cerâmica, plás�co

ABS

LIMITAÇÕES

Materiais de Substrato Dimensões Ø1100 X h1100mm

CORES PADRÃO