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1 Universidade Federal do Amazonas Faculdade de Tecnologia Curso de Engenharia de Materiais Disciplina: Nanomateriais Fabrício Lira

Universidade Federal do Amazonas Faculdade de Tecnologia Curso de Engenharia de Materiais

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Universidade Federal do Amazonas Faculdade de Tecnologia Curso de Engenharia de Materiais. Disciplina: Nanomateriais. Fabrício Lira. Artigo. Fabricação de matrizes metálicas altamente ordenadas de nanofios por eletrodeposição. Autores. - PowerPoint PPT Presentation

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Universidade Federal do Amazonas

Faculdade de Tecnologia

Curso de Engenharia de Materiais

Disciplina: Nanomateriais

Fabrício Lira

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Fabricação de matrizes metálicas altamente ordenadas de nanofios por eletrodeposição.

Artigo

A. J. Yin, J. Li, W. Jian, A. J. Bennett, and J. M. Xu

Autores

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Método utilizado : Eletrodeposição

Foram utilizados nanofios metálicos de (Ni,Bi);

Embalados com filmes de óxidos de alumínio anodizado (AAO);

A deposição foi realizada num banho orgânico de Dimetilsulfóxido (DMSO);

Nesse banho continha cloreto de metal como eletrólito.

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Método utilizado : Eletrodeposição

Cátodo: Foi utilizado o modelo AAO;

Ânodo: Foi utilizado uma barra de grafite.

O método utilizado baseia-se em eletrodeposição dos nanoporos.

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Método utilizado : Eletrodeposição

A Eletrodeposição foi feito em uma célula de vidro selado;

A solução foi agita e protegida por meio de um gás de N2 de alta pureza;

A temperatura foi mantida a 130 a 0,5 ºC por regulador de temperatura.

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Método utilizado : Eletrodeposição

Vantagens e Desvantagens

Capacidade de produzir nanofios altamente ordenadas, processo de baixo custo e alta produtividade.

Inclui o numero limitado de elementos que podem ser depositados;Precisa de um substrato condutor;

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Referências

FUNDAMENTOS DA ELETRODEPOSIÇÃO INTRODUÇÃO, Prof. Dr. Haroldo de Araújo Ponte, Universidade Federal do Paraná.

http://pt.wikipedia.org/wiki/Anodização

http://WWW.endosul-pa.com.br/proc.asp

Fabricação de matrizes metálicas altamente ordenadas de nanofios por eletrodeposição.A. J. Yin, J. Li, W. Jian, A. J. Bennett, and J. M. Xu