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UNIVERSIDADE FEDERAL DO RIO GRANDE DO SUL INSTITUTO DE FÍSICA ESTUDO EXPERIMENTAL SOBRE O EFEITO DE ALTAS PRESSÕES NO ÍNDICE DE REFRAÇÃO DE MATERIAIS CERÂMICOS Naira Maria Balzaretti Tese realizada sob a orientação do Dr. João Alziro Herz da Jornada, apresentada ao Instituto de Física da UFRGS em preenchimento final dos requisitos para a obtenção do grau de Doutor em Ciências. Porto Alegre, novembro de 1995. 1 Trabalho parcialmente financiado pelo Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq), pela Financiadora de Estudos e Projetos (FINEP), pela Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES) e pela Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado do Rio Grande do Sul (FAPERGS).

Indice de Refracao de Materiais Ceramicos

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  • UNIVERSIDADE FEDERAL DO RIO GRANDE DO SUL

    INSTITUTO DE FSICA

    ESTUDO EXPERIMENTAL SOBRE O EFEITO DE ALTAS PRESSES NO NDICE DE REFRAO DE MATERIAIS

    CERMICOS

    Naira Maria Balzaretti

    Tese realizada sob a orientao do Dr. Joo Alziro Herz da Jornada, apresentada ao Instituto de Fsica da UFRGS em preenchimento final dos requisitos para a obteno do grau de Doutor em Cincias.

    Porto Alegre, novembro de 1995.

    1 Trabalho parcialmente financiado pelo Conselho Nacional de Desenvolvimento Cientfico e Tecnolgico (CNPq), pela Financiadora de Estudos e Projetos (FINEP), pela Coordenao de Aperfeioamento de Pessoal de Nvel Superior (CAPES) e pela Fundao de Amparo Pesquisa do Estado do Rio Grande do Sul (FAPERGS).

  • Ao Felipe, Nathalie e Nicole, e a meus pais.

    2

  • AGRADECIMENTOS

    Ao meu orientador, Joo Alziro Herz da Jornada, meus sinceros agradecimentos por todos os ensinamentos recebidos e pelo contnuo estmulo e confiana depositados

    neste trabalho. Seu nimo impressionante e contagiante contribuiu de forma significativa para o trmino da etapa mais importante de minha vida acadmica.

    Agradeo tambm :

    a Ruth, pelas crticas, comentrios e sugestes feitas durante a elaborao da redao final deste trabalho;

    a todos os membros do Grupo de Altas Presses pelas diversas formas de apoio que me foram prestadas;

    ao Grupo de Laser pelas inmeras vezes em que me auxiliaram em diferentes situaes;

    ao Altair e Casanova, pelas dicas, sugestes e comentrios feitos no desenvolvimento deste trabalho;

    ao Prof. Joacir T.N. Medeiros, pelas discusses proveitosas sobre os aspectos

    tericos deste trabalho;

    ao Prof. Telmo Stroecker, pelo auxilio durante o processo de metalizao das

    amostras;

    ao pessoal de apoio tcnico, pelos servios prestados; ao pessoal do Laboratoire de Physico-Chimie des Materiaux, em Meudon,

    Frana, pela acolhida durante o estgio de Sanduiche-Doutorado no perodo de setembro de 1990 a fevereiro de 1991, em especial a Jean Pierre Denis, pela importantssima colaborao durante este estgio;

    e ao Felipe, por tudo. Finalmente agradeo a todos os amigos e familiares que sempre depositaram

    confiana e orgulho no meu trabalho. Porto Alegre, 1995.

    3

    Naira Maria Balzaretti

  • 4

    RESUMO

    Neste trabalho so apresentados resultados experimentais sobre a variao do

    ndice de refrao em altas presses para trs grupos de materiais cermicos: fluoretos

    ( LiF, CaF2, MgF2), xidos (A1203, c-Zr02, m-Zr02) e materiais superduros (c-BN,

    3C-SiC e diamante). Estes resultados foram obtidos atravs de um mtodo

    interferomtrico, em conjunto com a cmara de presso do tipo bigornas de diamante,

    que permitiu atingir presses da ordem de 10 GPa. Resultados anteriores, quando

    encontrados, limitam-se regio de baixa presso, at cerca de 0,7 GPa. Para todos os

    compostos estudados, a variao do ndice de refrao observada foi praticamente linear

    com a presso. Para os fluoretos, o ndice de refrao aumenta com a presso, enquanto

    que, para os demais compostos, o ndice de refrao diminui com a presso, com

    exceo de uma das componentes no caso da zircnia monoclnica birrefringente.

    A anlise dos resultados, segundo a abordagem clssica de Lorentz-Lorenz, em

    termos de entidades individuais polarizveis, permitiu determinar o comportamento da

    polarizabilidade dos tomos, a, durante a variao do volume para todos os compostos.

    Obteve-se uma dependncia praticamente linear, a qual pde ser representada por um

    parmetro constante para cada material. No caso dos fluoretos, altamente inicos, a

    variao relativa da polarizabilidade foi pequena comparada aos demais casos,

    consistente com a imagem dos ons como esferas pouco deformveis. No caso dos

    xidos, que apresentam certo grau de covalncia, o oxignio mostrou-se bastante

    deformvel e sensvel estrutura cristalina. Para a zircnia monoclnica, inclusive, a

    anisotropia das interaes interatmicas provocou uma deformao do tipo elipsoidal no

    oxignio durante a aplicao de presso, responsvel por comportamentos distintos das

    duas componentes medidas do ndice de refrao: uma aumentou e a outra diminuiu com

  • 5

    a presso. Para os materiais superduros, apesar de ser discutvel a validade do conceito

    de polarizabilidade nestes casos, obteve-se um comportamento tambm linear, sem

    discrepncias significativas devidas ao carter fortemente covalente destes materiais.

    Os resultados para a(V) foram usados para testar modelos semi-empricos sobre

    a dependncia da polarizabilidade dos nions com a distncia interatmica. A anlise feita

    permitiu concluir que os modelos testados so satisfatrios apenas para os fluoretos,

    provavelmente devido ao carter inico e pequena deformabilidade do flor. Os

    modelos que consideram que os eltrons responsveis pela polarizao estejam

    distribuidos numa casca esfrica, conduzem a melhores resultados do que os que

    consideram estes eltrons distribuidos numa cavidade esfrica.

    Para os materiais superduros, foi possvel determinar uma correlao entre os

    comportamentos da carga transversal efetiva e da polarizabilidade eletrnica durante a

    variao da presso: o aumento da carga transversal efetiva contribui para a reduo da

    polarizabilidade devido concentrao da nuvem eletrnica, tendo como consequncia,

    um decrscimo relativamente acentuado no ndice de refrao, como ocorre para o

    3C-SiC. Por outro lado, a diminuio da carga transversal efetiva tem um efeito

    contrrio sobre a reduo da polarizabilidade, atenuando o decrscimo no ndice de

    refrao com a presso, como acontece para o c-BN. O diamante, por ser um cristal

    homopolar, tem carga transversal efetiva nula e representa uma situao intermediria

    entre o c-BN e o 3C-SiC.

    De acordo com uma viso delocalizada do cristal, os resultados obtidos para os

    materiais superduros foram utilizados para testar modelos propostos na literatura,

    relacionando o ndice de refrao banda de energia proibida do material. Nenhum dos

    modelos descreve, simultaneamente, a relao entre os comportamentos destes dois

    parmetros durante a variao de presso, para os trs casos estudados. Entretanto, a

  • 6

    anlise feita permitiu concluir que, em princpio, estes modelos so aplicveis a materiais

    sob presso apenas quando a energia da radiao incidente pequena comparada banda

    de energia proibida.

    O mtodo interferomtrico utilizado pode ser usado para medir a presso em

    cmaras com janelas ticas, apresentando uma sensibilidade significativamente maior do que a da tcnica de fluorescncia do rubi.

  • 7

    ABSTRACT

    In this work we present experimental results for the variation of the refractive

    index in high pressures for three groups of ceramic materiais: fluorides (LiF, CaF2,

    MgF2), oxides (A1203, c-Zr02, m-Zr02) and superhard materiais (c-BN, 3C-SiC and

    diamond). These results were obtained using an interferometric method in the diamond

    anvil cell, that enables pressures up to 10 GPa. Previous results present in the literature,

    exist only for few cases and for the low pressure range, up to 0,7 GPa. For ali the

    compounds, the observed variation of the refractive index was almost linear: for the

    fluorides, it increases with pressure and, for the other compounds, it decreases with

    pressure, except for one of the components in the case of the monoclinic zirconia.

    The analysis of the results following the classical Lorentz-Lorenz approach in

    terms of individual and polarizable entities, allows the determination of the volume

    dependence of the electronic polarizability, a, for ali the compounds. An almost linear

    relationship was obtained, well represented by a constant parameter for each material. In

    the case of the highly ionic fluorides, the relative variation of the polarizability is smaller

    than for the other cases, consistent with the ionic picture of nearly "hard spheres". In the

    case of oxides, the oxygen ion was deformable and sensitive to the crystalline structure.

    For the monoclinic zirconia, the anisotropic interatomic interactions induce an elipsoidal

    deformation in the oxygen ion during the pressure variation, that is responsible for the

    distinct behaviors of both components of the refractive index: one increases and the other

    decreases with pressure. For the superhard materiais, despite the conception of electronic

    polarizability in covalent material is a subject of discussion, a linear behavior was

    obtained for the volume dependence of the polarizability, without any discrepancy due to

    the strong covalent character of these materials.

  • 8

    The obtained results for a(V) were used to test semi-empirical models relating

    the anion electronic polarizability and the interatomic distance. The models were

    satisfactory only for the fluorides, probably due to the ionic caracter and to the small

    deformability of the fluorine ion. The models considering that the electrons responsible

    for the polarization are in a spherical shell, give better results than the models

    considering the electrons confined to a spherical cavity.

    For the superhard materiais, it was possible to find a correlation between the

    variations of the transverse effective charge and the electronic polarizability with

    pressure: the increase of the transverse effective charge contributes to the reduction of

    the polarizability due to the concentration of the electronic cloud, resulting in an strong

    decrease of the refractive index, as is the case for 3C-SiC. On the other hand, the

    decrease of the transverse effective charge has an opposite effect over the reduction of

    the polarizability, and the decrease of the refractive index is less pronounced, as is the

    case for c-BN. Since diamond is a homopolar crystal, there is no transverse effective

    charge, representing an intermediate situation.

    Following a delocalized picture of the crystal, the obtained results for the

    superhard materiais were used to test proposed models found in the literature, relating

    the refractive index and the energy band gap of the material. It was found that none of

    them simultaneously describes the behavior of these parameters during the pressure

    variation for the three studied materiais. The analysis of the results allows the conclusion

    that these models could be valid for a given material under pressure only when the value

    of the incident energy is not dose to the band gap energy of the material.

    The interferometric method can be used for pressure calibration in high pressure

    cells with an optical window, showing higher sensitivity than the technique of the ruby

    fluorescence.

  • 9

    INTRODUO 11

    L O NDICE DE REFRAO 17 1.1 Polarizao em Materiais Dieltricos 17

    I.1-1 Relao de Drude

    21

    1.1-2 Relao de Lorentz-Lorenz 22

    1.2 Polarizabilidade Eletrnica 25

    1.2-1 Modelos para a Polarizabilidade Eletrnica 27

    1.2-1.1 Modelo de Casca e Caroo 27

    1.2-1.2 Polarizabilidade e Raios Atmicos 29

    1.2-1.3 Polarizabilidade e Distncia Interatmica 31

    1.2-1.4 Polarizabilidade e Frequncia do Campo Incidente 34

    1.2-2 Polarizabilidade e Mecnica Quntica 37 1.3 ndice de Refrao e Banda de energia proibidas 40

    II. PROPRIEDADES FSICAS DOS MATERIAIS ESTUDADOS 45 11.1 Fluoretos

    46

    11.1-1 LiF 46

    11.1-2 CaF2 47

    11.1-3 MgF2 48

    11.2 xidos

    50

    11.2-1 MgO

    50

    11.2-2 A1203

    51

    11.2-3 Zr02

    52

    11.3 Materiais Superduros 55

    11.3-1 Diamante 56

    11.3-2 c-BN 58

    11.3-3 3C-SiC 59

    IIL TCNICA EXPERIMENTAL 62 III.1 Cmara de Bigornas de Diamante 63

  • 10

    111.2 A Tcnica de Fluorescncia do Rubi 65

    111.3 Mtodo Interferomtrico 66

    111.3-1 Preparao das Amostras 73

    111.3-2 Sistema tico para Monitoramento das Experincias 76

    IV RESULTADOS EXPERIMENTAIS 82

    V ANLISE E DISCUSSO DOS RESULTADOS EXPERIMENTAIS 98 V.1 Variao da Polarizabilidade Eletrnica com o Volume 98

    V.2 Teste dos Modelos Empricos para a_(r) 112

    V.3 Teste dos Modelos Empricos Relacionando o ndice de Refrao Banda de Energia Proibida 115

    VI- VIABILIDADE DO USO DO MTODO INTERFEROMTRICO PARA MEDIDA DE ALTAS PRESSES 121

    CONCLUSES 125 REFERNCIAS BIBLIOGRFICAS 131

  • 11

    INTRODUO

    Ao incidir uma onda eletromagntica num material dieltrico, o campo eltrico

    associado onda interage com as partculas carregadas do meio. Devido a esta interao,

    as entidades microscpicas do material tornam-se polarizadas, e a velocidade de

    propagao da onda alterada. O ndice de refrao o parmetro fisico macroscpico

    que determina o valor da velocidade da onda no material em relao sua velocidade no

    vcuo (v=c/n). Trata-se, portanto, de uma caracterstica sumamente importante de um

    material, fundamental para entender a resposta da estrutura microscpica do sistema

    presena de um campo eltrico.

    Para relacionar o ndice de refrao s propriedades atmicas do material,

    preciso considerar o problema de muitos corpos interagindo entre si e com o campo

    incidente. O estudo deste problema, partindo-se de primeiros princpios, bastante

    complexo e conduz a resultados aplicveis a poucos casos particulares. Portanto,

    fundamental a existncia de modelos ou teorias que possibilitem uma visualizao dos

    mecanismos fisicos envolvidos no processo de determinao do ndice de refrao de um

    material.

    Os modelos existentes esto baseados em dois tipos de abordagens. O primeiro

    tipo considera o sistema segundo uma viso localizada, identificando entidades

    individuais polarizveis na presena de um campo eltrico. Neste caso, o ndice de

    refrao est relacionado polarizabilidade das entidades microscpicas, ou seja, sua

    capacidade de polarizao. O segundo tipo de abordagem, considera o carter coletivo

    do sistema e procura relacionar o ndice de refrao a parmetros como a banda de

    energia proibida, ou as frequncias caractersticas de vibrao da rede.

  • 12

    A existncia de estudos experimentais sistemticos sobre o ndice de refrao

    importante para testar os modelos existentes, bem como para servir de base para o

    desenvolvimento de novos modelos.

    Do ponto de vista experimental, a presso urna alternativa muito importante

    para estudar o problema, pois permite variar o volume do material de forma pura e

    controlada. Como a distncia interatmica um parmetro fisico diretamente

    relacionado s propriedades microscpicas do sistema, o estudo do comportamento do

    ndice de refrao durante a variao desta distncia, pode conduzir a informaes

    relevantes sobre a fisica envolvida na determinao do ndice de refrao.

    Entretanto, devido s dificuldades tcnicas para a medida de propriedades ticas

    de materiais submetidos alta presso, os resultados experimentais encontrados na

    literatura so escassos. No existe um estudo experimental sistemtico e os poucos

    resultados encontrados para a variao do ndice de refrao, so na regio de baixas

    presses (at 0,7 GPa' ).

    Dependendo da dureza do material estudado, variaes significativas do volume

    (5% ou mais) somente podem ser obtidas mediante o uso de altas presses, tipicamente

    maiores que 1 GPa. O desenvolvimento da cmara de alta presso do tipo bigornas de

    diamante (Diamond Anvil Cell - DAC) [Ja86] a partir da dcada de 70, juntamente com a

    tcnica de fluorescncia do rubi para a medida da presso "in situ" [PBB+75],

    viabilizaram estudos envolvendo altas presses, sendo possvel manter condies

    hidrostticas at 14 GPa. Uma das grandes vantagens desta tcnica so as janelas

    transparentes de diamante, que tornam possvel uma srie de experimentos envolvendo

    faixas de energia desde a regio dos raios X at a regio do ultravioleta prximo, em

    presses que podem alcanar centenas de GPa.

    1 1GPa = 10 kbar = 9.869 atm.

  • 13

    Durante o nosso trabalho de Mestrado [Ba88], foi desenvolvido um mtodo

    interferomtrico, usado em conjunto com a DAC, que viabilizou a medida experimental

    da variao do ndice de refrao do MgO at presses de 12 GPa. O mtodo consiste

    em acompanhar, durante a variao de presso, o deslocamento das franjas de

    interferncia de um micro-interfermetro feito do material estudado. Se a variao da

    espessura da amostra for conhecida, o deslocamento das franjas permite determinar a

    correspondente variao do ndice de refrao do material.

    No presente trabalho, esta tcnica experimental foi aprimorada e estendida a uma

    srie de materiais representando situaes fisicas relevantes, tanto do ponto de vista de

    pesquisa bsica, como do ponto de vista de aplicaes tecnolgicas. Neste estudo

    experimental sistemtico, os resultados foram obtidos para uma ampla regio de presso,

    at 10 GPa, ainda no investigada em trabalhos anteriores encontrados na literatura.

    A escolha dos materiais est baseada numa srie de fatores importantes do ponto

    de vista experimental e, tambm, do ponto de vista da interpretao dos resultados,

    como a simplicidade estrutural, com equao de estado previamente determinada, a

    transparncia na regio do visvel, a viabilidade na obteno de amostras monocristalinas,

    o interesse tecnolgico (uso em janelas ticas, lentes ou prismas), o tipo de ligao

    qumica, a polarizabilidade dos ctions desprezvel frente a dos nions no caso de

    compostos jnicos, e outros. Foram nove os materiais selecionados, todos eles

    monocristalinos, os quais podem ser classificados em trs grupos: i) fluoretos: LiF

    (Fluoreto de Ltio), CaF2 (Fluoreto de Clcio ou fluorita) e MgF2 (Fluoreto de

    Magnsio); ii) materiais superduros: c-BN (Nitreto de Boro Cbico), C (Diamante) e

    3C-SiC (Carboneto de Silcio Cbico), e iii) xidos: ZrO2 (Zircnia) cbica e

    monoclnica e A1203 (Safira).

  • 14

    Estes grupos de materiais cermicos representam trs situaes fisicas relevantes

    quanto ao tipo de ligao qumica entre os tomos. Os fluoretos so essencilamente

    compostos inicos, os materiais superduros so essencialmente covalentes, e os xidos

    representam uma categoria intermediria, com ligaes parcialmente inicas.

    No grupo dos fluoretos, os compostos estudados so transparentes e largamente

    utilizados na fabricao de lentes, prismas e janelas ticas. A comparao dos resultados

    obtidos para os trs casos permitir analisar o comportamento da polarizabilidade do

    flor em diferentes ambientes cristalinos.

    O grupo de materiais superduros tem grande importncia tecnolgica devido

    alta dureza, alta condutividade trmica e alta resisitividade eltrica, que, dentre outros

    fatores, so caractersticas destes materiais. Os trs materiais so compostos por tomos

    pequenos e apresentam rede cbica com intensas ligaes covalentes, que so

    responsveis por estas propriedades fisicas interessantes.

    Os xidos selecionados so transparentes e tambm apresentam aplicaes

    tecnolgicas importantes. Do ponto de vista de pesquisa bsica, os resultados obtidos

    permitem investigar o comportamento da polarizabilidade do oxignio como funo da

    distncia interatmica, em diferentes ambientes cristalinos. A zircnia torna possvel

    analisar o comportamento do on em duas estruturas cristalinas diferentes do mesmo

    composto e investigar o que acontece no caso de uma rede anisotrpica, como a da

    zircnia monoclnica, submetida presso.

    A anlise dos resultados experimentais obtidos no presente estudo sistemtico

    feita a partir de uma reviso terica abrangente, considerando os diferentes modelos

    existentes para o ndice de refrao. O objetivo desta anlise correlacionar os

    parmetros fisicos obtidos, na busca de similaridades ou diferenas entre os vrios

    materiais. O resultado desta anlise pode servir de base para o desenvolvimento de novos

  • 15

    modelos ou teorias sobre os mecanismos fisicos responsveis pelo ndice de refrao de

    um material.

    O procedimento experimental desenvolvido durante o presente trabalho ensejou o

    estudo do uso do mtodo interferomtrico para medida de presso na DAC, buscando

    vantagens adicionais frente tcnica de fluorescncia do rubi. O deslocamento das

    franjas de interferncia com a presso, uma vez calibrado, pode ser usado para

    determinar a presso em clulas que possuam uma janela transparente. A sensibilidade do

    mtodo pode chegar a ser consideravelmente maior do que a da tcnica de fluorescncia

    do rubi (dependendo do material usado e do processo de preparao da amostra).

    A apresentao e a anlise dos resultados obtidos neste trabalho so feitas da

    seguinte maneira: no captulo I apresentada uma reviso sobre as teorias e modelos

    existentes sobre o ndice de refrao, tanto do ponto de vista clssico, quanto do ponto

    de vista da Mecnica Quntica. So apresentados os modelos que possam ser utilizados

    na anlise dos resultados obtidos para o comportamento do ndice de refrao durante a

    variao do volume. No captulo II encontra-se um breve resumo sobre algumas

    caractersticas fisicas e aplicaes tecnolgicas importantes dos trs grupos de materiais

    estudados. No captulo III feita uma descrio sobre a DAC e a tcnica de

    fluorescncia de rubi. So apresentados detalhes sobre o mtodo interferomtrico e sobre

    o processo de preparao das amostras, desenvolvidos no presente trabalho. No captulo

    IV so apresentados os resultados experimentais obtidos para a dependncia do ndice de

    refrao com a presso para todos os compostos. No captulo V, os resultados

    experimentais so analisados e discutidos luz das teorias e modelos apresentados no

    captulo I, destacando as similaridades e diferenas entre os trs grupos de materiais. No

    captulo VI feito o estudo sobre a viabilidade do uso do mtodo interferomtrico para a

  • 16

    medida de alta presso em comparao com a tcnica de fluorescncia do rubi.

    Finalmente, so apresentadas as concluses do presente trabalho e algumas sugestes

    para a continuidade do mesmo.

  • 17

    I. 0 NDICE DE REFRAO

    Segundo a Teoria Eletromagntica Clssica, o ndice de refrao est relacionado

    polarizao resultante em materiais submetidos ao de um campo eltrico. Esta

    polarizao pode ser descrita em termos de propriedades individuais dos tomos do

    sistema. Cada tomo pode ser considerado como uma entidade localizada, que se

    polariza na presena do campo incidente, adquirindo um momento de diplo eltrico. O

    efeito resultante a polarizao macroscpica do material.

    O ndice de refrao tambm pode ser relacionado a propriedades coletivas do

    sistema atmico, como a banda de energia proibidas do material ("band gap") e as

    frequncias caractersticas de vibrao coletiva dos tomos. Estes parmetros so de fcil

    interpretao fisica, so detectveis experimentalmente e representam aspectos

    importantes dos materiais.

    Neste captulo sero apresentados as diferentes abordagens e modelos usados na

    anlise dos resultados experimentais obtidos para a correlao entre o ndice de refrao

    e a variao de volume dos materiais estudados.

    Polarizao em Materiais Dieltricos

    Do ponto de vista clssico, o cristal representado por caroos atmicos,

    contendo os ncleos e os eltrons das camadas mais internas, e pelas respectivas nuvens

    eletrnicas, contendo os eltrons mais externos. Em cristais inicos, as entidades que

    compem o cristal tm carga eltrica definida, podendo ser positiva ou negativa. Nos

  • 18

    materiais covalentes, os eltrons da nuvem eletrnica so compartilhados entre tomos

    vizinhos, dando origem a ligaes direcionais fortes.

    Os materiais estudados no presente trabalho podem ser classificados como

    dieltricos, ou seja, so materiais nos quais os eltrons da nuvem eletrnica esto

    fortemente ligados s molculas ou ons. Sob a ao de um campo eltrico incidente, o

    equilbrio entre a fora eltrica associada ao campo e a fora de interao Coulombiana

    entre o caroo atmico e a nuvem eletrnica, faz com que o deslocamento relativo entre

    as cargas positivas e negativas seja finito. As molculas ou tomos adquirem um

    momento de diplo induzido e o efeito macroscpico resultante a polarizao do

    material.

    Em campos de baixa intensidade, efeitos no lineares podem ser desprezados e o

    vetor polarizao, P, proporcional ao campo incidente. Neste caso, define-se:

    P = xE (1-1)

    onde x o tensor susceptibilidade eltrica, relacionado estrutura eletrnica do sistema

    [Ha 80]. Para materiais com simetria cbica ou isotrpicos, como a maioria dos

    estudados no presente trabalho, o tensor x reduz-se a um escalar. Este ser o caso

    considerado na apresentao a seguir.

    O vetor deslocamento eltrico gerado no material, D, dado por:

    D= E+4 irP (1-2)

    = E+4 exE)

    A constante dieltrica definida como sendo a razo entre o vetor deslocamento

    eltrico gerado e o campo aplicado:

    e = DiE (1-3)

  • 19

    Para materiais cbicos ou isotrpicos, o tensor e tambm reduz-se a um escalar.

    Utilizando a eq.(I-2), chega-se seguinte relao entre a constante dieltrica e a

    susceptibilidade eltrica de um material:

    E+47r(xE) -

    E

    ou:

    e = 1+ 4;rx (1-5)

    O ndice de refrao n definido como:

    (1-5a)

    Este parmetro representa, de acordo com as eqs.(I-2), (I-3) e (I-5a), uma medida

    relativa da polarizao provocada no material pela incidncia de um campo eltrico. No

    presente trabalho, ser considerada a faixa de freqncias do campo eltrico que fica

    abaixo da regio de absoro de energia por parte dos eltrons.

    Do ponto de vista microscpico, o campo eltrico local atuando sobre um dado

    tomo ou on inserido num material dieltrico, ser afetado pela prpria polarizao

    causada no meio e, portanto, ser diferente do campo externo aplicado. O clculo do

    campo eltrico local pode ser feito considerando-se o seguinte artificio: imagina-se uma

    cavidade esfrica no interior do dieltrico, em torno do tomo a ser analisado, conforme

    mostra a Fig.I-1. Neste contexto, o dieltrico externo cavidade pode ser tratado como

    um contnuo, e os demais tomos na cavidade, como diplos individuais. As

    contribuies para o campo efetivo so:

    E1: campo externo aplicado;

  • 20

    E2: campo despolarizante resultante da carga de polarizao nas superfcies externas do

    material;

    E3: campo devido carga de polarizao na superfcie da cavidade, paralelo ao campo

    incidente;

    E4: campo devido aos diplos no interior da cavidade.

    Fig.1-1 Representao dos campos eltricos num dieltrico considerando uma cavidade esfrica em torno do tomo considerado.

    O campo eltrico macroscpico dado pela soma Em = E1 + E2 . A contribuio

    E3 pode ser calculada a partir da densidade de carga de polarizao na superfcie da

    cavidade esfrica:

    E3 = (47r/3) P (I-6)

    O campo microscpico devido s molculas no interior da cavidade o nico que

    depender da estrutura cristalina do material. Para o caso de cristais cbicos, gases ou

    lquidos, ocorre um cancelamento das contribuies de todos os diplos, resultando em

    E4=0 [RMC82]. Nestes casos, o campo efetivo local ser dado, ento, por:

    Elos = + (47r/3) P (1-7)

  • 21

    Considerando que haja N molculas por unidade de volume no material, cada

    uma com momento de diplo induzido, p, a polarizao resultante tambm pode ser

    escrita como:

    P = Np (1-8)

    O momento de dipolo induzido ser diretamente proporcional ao campo local:

    ,u = aElo, (I-9)

    onde a o tensor polarizabilidade eletrnica, que pode ser definido como sendo a

    capacidade de polarizao do tomo na presena de um campo eltrico.

    Como a polarizabilidade eletrnica a relaciona dois vetores - o campo eltrico

    atuando sobre o tomo e o momento de diplo eltrico induzido pelo prprio campo -

    ela , em princpio, uma grandeza tensorial que depende das propriedades do meio onde

    o tomo est inserido. Conseqentemente, a componente da polarizao resultante num

    material anisotrpico ser diferente para diferentes direes cristalinas. Entretanto, para

    materiais isotrpicos ou com simetria cbica, a reduz-se a um escalar e a polarizao

    resultante a mesma para todas as direes.

    As grandezas definidas acima, seguindo a Teoria Eletromagntica Clssica,

    permitem deduzir as seguintes relaes para o ndice de refrao em funo da

    polarizabilidade eletrnica:

    1.1-1 Relao de Drude

    No caso ideal de tomos no interagentes, como num gs rarefeito, o campo

    efetivo local ser igual ao incidente e, portanto, de acordo com as eqs. (1-1), (1-8) e

    (1-9):

  • 22

    P = xE

    =Np

    = N(aE)

    Usando a relao (1-5), obtm-se:

    x = Na

    = (s-1)/471-

    E, finalmente:

    112 - 1 = 4zNa (I-10)

    conhecida como relao de Drude, vlida para tomos no interagentes.

    1.1-2 Relao de Lorentz-Lorenz

    Num meio dieltrico usual os tomos ou ons interagem entre si e, na presena de

    um campo eltrico incidente, esta interao provoca correes locais no campo que atua

    sobre cada tomo. Neste caso, o vetor polarizao pode ser escrito como:

    P = xE,

    =N(aErod

    Usando a expresso para o campo efetivo local, eq.(I-7), a susceptibilidade eltrica pode

    ser escrita como:

    Na E. 1- 4z Na

    3

    E-1 47T

    que resulta, para frequncias na faixa do visvel, na relao de Lorentz-Lorenz:

  • 23

    112 -1 4n1- Na n2 +2 3 (1-12)

    vlida para cristais com simetria cbica, gases ou lquidos.

    As abordagens de Drude e Lorentz-Lorenz, eqs. (1-10) e (1-12), relacionam o

    ndice de refrao densidade e polarizabilidade dos tomos ou ons. As propriedades

    microscpicas do meio esto implicitamente consideradas no conceito de polarizabilidade

    eletrnica.

    importante notar que, no modelo original de Lorentz-Lorenz, usado no estudo

    de slidos cristalinos, a polarizabilidade era considerada um parmetro constante do

    material, sendo relevante apenas a relao entre o ndice de refrao e a densidade.

    Mueller [Mu35], analisando o que aconteceria com o ndice de refrao de um material

    durante a variao da densidade, props que fosse considerada a variao da

    polarizabilidade no modelo de Lorentz-Lorenz. O aumento da densidade provoca um

    aumento no nmero de entidades polarizveis por unidade de volume, mas a

    polarizabilidade de cada entidade diminui devido diminuio do volume disponvel. A

    competio entre estes dois fatores determina se o ndice de refrao do material

    aumenta ou diminui durante a variao da densidade.

    Segundo Mueller, o ndice de refrao seria, ento, funo de N e a: n = f(N, a),

    cuja variao expressa por:

    dn ( (30 +( &

    dN ) a a ), av (I-13)

    A primeira parcela positiva, pois o aumento do nmero de entidades

    polarizveis por unidade de volume provoca um aumento no ndice de refrao. A

    segunda parcela, entretanto, ser negativa j que a polarizabilidade de cada entidade

    dever diminuir com o aumento da densidade.

  • a(a 1 ao ) Ao

    c2(N I ) (I-19)

    24

    As derivadas parciais podem ser calculadas a partir da relao de Lorentz-

    Lorenz, eq. (1-12): ) (n2 1)(n2 +2) LN 6nN (I-14)

    e:

    (n2 1)(n2 +2) (I-15) a 6na

    a

    (av th) (1-16)

    Ento, a derivada total do ndice de refrao pode ser expressa por:

    dr, N o 1 al ar dN 4- a avAav)a

    az = (1 A 0 )(--j-r ja

    (1-17)

    (1-18)

    onde Ao uma constante fenomenolgica vlida para presses hidrostticas, conhecida

    como parmetro de Mueller, ou constante de polarizabilidade por deformao ("strain polarizability constant"):

    OU:

    a(a I ao ) A

    e(V / V0) (1-20)

    Usando a eqs. (1-18) e (1-14), chega-se a seguinte expresso para o parmetro de Mueller, de acordo com a relao de Lorentz-Lorenz:

    r 6nN id,, Ao = 2 1[ L ( 1)(n2 +2)idN (1-21)

  • 25

    Como as grandezas entre colchetes so todas positivas, Ao pode ser maior ou menor do

    que um, dependendo do sinal da variao total do ndice de refrao com a presso,

    citz/dN.

    1.2 Polarizabilidade Eletrnica

    A polarizabilidade eletrnica est relacionada ao momento de diplo induzido no

    tomo pelo deslocamento relativo entre a nuvem eletrnica e o caroo do tomo ou on.

    Existem ainda outros dois fatores que podem contribuir para a polarizabilidade total de

    um material, conforme mostra a Fig. I-2(a). A contribuio jnica devida ao

    deslocamento e deformao de um on em relao aos demais constituintes da rede; a

    polarizabilidade orientacional pode existir em materiais que contm molculas com

    diplo eltrico permanente. A Fig. 1-2 (b) apresenta de forma esquemtica, a

    dependncia destas trs contribuies com a frequncia do campo aplicado. Na faixa do

    visvel predomina a polarizabilidade eletrnica, devido inrcia das molculas e ons em

    altas frequncias.

  • Infra- vermelho Ultravioleta

    UHF at micro-ondas

    Frequncia

    (b)

    1 a electronic a

    26

    E= O E

    Electronic a

    fnica

    Dipolar /\ /\ 71 \ (a) 17NN

    Fig.I-2 (a)Representao das trs contribuies para a polarizabilidade total de um sistema, (b) representao esquemtica da variao da constante dieltrica com a frequncia do campo incidente.

  • 27

    1.2-1 Modelos para a Polarizabilidade Eletrnica

    Dentre os vrios modelos para a polarizabilidade eletrnica existentes na

    literatura, sero apresentados aqueles que possam ser utilizados para estudar o

    comportamento do ndice de refrao durante a variao da distncia interatmica com a

    presso.

    1.2-1.1 Modelo de Casca e Caroo

    A teoria que conduz s relaes de Lorentz-Lorenz e Drude considera que o

    nico agente responsvel pela polarizao de um material seja o campo eltrico local

    (eq. (1-7)). Conforme Dick e Overhauser [D058], que investigaram o efeito das

    interaes de curto alcance entre ons vizinhos sobre a polarizabilidade dos mesmos, as

    deformaes resultantes deste tipo de interao, no consideradas na teoria clssica

    simples, tambm so responsveis pela polarizao resultante do sistema.

    A anlise realizada por Dick e Overhauser baseia-se em clculos qunticos da

    energia de interao entre tomos, levando em conta as seguintes contribuies:

    a) energia de interao Coulombiana entre os eltrons dos tomos vizinhos;

    b) energia de interao Coulombiana entre os eltrons e os ncleos de tomos

    vizinhos;

    c) energia de interao entre os ncleos vizinhos;

    d) energia de interao do tipo troca, que existe na regio de superposio entre

    as nuvens eletrnicas dos tomos vizinhos e entre as nuvens e os ncleos dos

    tomos;

  • 28

    Alm destas contribuies, consideram que os eltrons mais distantes do ncleo

    sofrem mais profundamente o efeito do campo eltrico aplicado, devido ao fato de

    estarem menos ligados ao on. Portanto, os ons com configurao de gs nobre podem

    ser vistos como uma casca esfrica com p eltrons, circundando um caroo que contm

    o ncleo e os eltrons das camadas mais internas. Na presena de um campo eltrico, a

    casca manteria sua forma esfrica, porm se deslocaria como um todo em relao ao

    caroo. A polarizabilidade seria mantida finita devido ao de uma fora restauradora

    atuando entre o caroo e a casca, representada por uma constante de mola k.

    Sendo x o deslocamento relativo entre casca e caroo, no equilbrio o mdulo da

    fora eltrica atuando sobre a casca deve ser igual ao mdulo da fora restauradora, ou

    seja:

    F = )64, = kr (1-22)

    onde 13 a carga da casca eletrnica. O momento de diplo induzido no on pelo campo

    efetivo ser:

    p = alio, = fix (1-23)

    Eliminando-se E10, das eqs. (1-22) e (1-23), obtm-se a seguinte relao para a

    polarizabilidade do on no cristal:

    a = /32/k (1-24)

    e a relao de Lorentz-Lorenz, desprezando a polarizao inica da rede, pode ser

    escrita, ento, como:

    fi z -1 41c N()V fi+2)

    + n2 I- 2 3 k+ (1-25)

    onde + e - representam os ctions e nions, respectivamente. Segundo o modelo

    proposto por Dick e Overhauser, a carga efetiva fl da casca afetada pelas interaes de

    curto alcance, diferindo do produto do nmero de eltrons pela carga eletrnica, pe. Os

  • 29

    resultados da teoria mostram que a carga efetiva ligeiramente menor do que p_e para os

    nions, e maior do que p,e para os ctions, como consequncia das interaes de troca

    entre os ons vizinhos.

    Apesar da eq.(I-25) ser simples, a determinao experimental dos parmetros /3 e

    k no pode ser feita de forma direta. Entretanto, este modelo importante para a

    visualizao dos mecanismos fisicos relacionados polarizabilidade eletrnica.

    1.2-1.2 Polarizabilidade e Raios Atmicos

    Alguns modelos semi-empricos sugerem uma dependncia explcita entre a

    polarizabilidade e o raio atmico ou a distncia interatmica, conhecidos para a maioria

    dos compostos existentes.

    Consideremos, primeiramente, um modelo bastante simples: um tomo isolado,

    formado por um ncleo com carga pontual Ze, rodeado por uma nuvem eletrnica

    esfrica de raio Ro, com distribuio uniforme de carga. Na presena de um campo

    eltrico local, o centro da nuvem eletrnica ser deslocado em relao ao ncleo sem

    entretanto ocorrerem distores na forma esfrica da nuvem. O deslocamento relativo, x,

    pode ser obtido a partir da condio de equilbrio das foras que atuam no ncleo: por

    um lado, a fora eltrica ZeElo, atua no sentido do campo, enquanto que uma fora

    eletrosttica entre o ncleo e a nuvem tende a restaurar a configurao inicial. A carga

    negativa que atrai o ncleo, segundo a lei de Gauss, ser apenas a que se encontra no

    interior da esfera de raio x, dada por: (Zex3)/Ro3 . O equilbrio entre estas foras existir

    se:

  • 30

    ou seja:

    Ze(Zex 3 1 R03 ) ZeEioc =

    x2 (1-26)

    Zex = Ro3Eio, (1-27)

    O lado esquerdo da relao (1-27) corresponde ao momento de diplo p criado no

    processo, relacionado polarizabilidade do sistema atravs de p = aEi0 . Para a

    polarizabilidade do tomo chega-se a seguinte expresso:

    a = R03 (1-28)

    Neste modelo simples, a polarizabilidade do tomo independe do campo

    polarizante e proporcional ao volume do tomo.

    A partir deste resultado simples outros modelos semi-empricos foram propostos

    relacionando a ao raio atmico. Em geral o objetivo principal dos modelos explicar a

    variao da polarizabilidade de um determinado tomo ou on quando este passa do

    estado "livre" (longe da influncia de outros tomos ou ons) para o estado cristalino.

    Alguns autores ([TKS53], [Ru63]) sugerem, tendo em vista a influncia do potencial

    cristalino sobre os ons, que a polarizabilidade dos ctions aumenta e a dos nions

    diminui durante esta mudana de estado. Alm disso, assumem que o valor da

    polarizabilidade de um on no estado cristalino seria funo apenas das propriedades

    inerentes ao on, como sua carga eltrica e seu raio, independentemente do composto

    onde ele estivesse inserido.

    Os modelos empricos relacionando a ao raio atmico, tendo o resultado do

    modelo simples, eq. (1-28), como ponto de partida, so do tipo [AS73], [SV76],

    [SAS77], [SAJ80]:

    (1-29)

  • 31

    onde a+ e a representam a polarizabilidade dos ctions e nions, r+ e r_. os respectivos

    raios jnicos, A e t so constantes e o superescrito "o" indica o estado livre. Estes modelos consideram que o potencial cristalino em compostos jnicos aumente a

    polarizabilidade e o raio atmico dos ctions e diminua ambos para os nions [Le69],

    [Ru63].

    Entretanto, a polarizabilidade e o raio dos ons no estado livre no so

    determinveis experimentalmente de forma direta, sendo necessrio recorrer a clculos

    tericos e procedimentos empricos. Tradicionalmente, os valores assumidos para a

    polarizabilidade dos ons so os determinados por Pauling em 1927 [Pa27], apresentados

    na Tabela 1-1. Como podemos notar, a polarizabilidade dos nions consideravelmente

    maior do que a dos ctions, o que devido ao nmero e localizao dos eltrons na

    nuvem eletrnica.

    Tabela 1-1 Polarizabilidade Eletrnica dos ons no estado "livre" (10r3 nm3) [Pa27]

    1.04 0-2

    3.88 N-3 28.8

    Li+1 Mg+2 Ca+2 0.029 0.094 0.47 B+3 A1+3 C+4

    0.003 0.052 0.0013 Si+4 Zr f4

    0.0165 0.37

    1.2-1.3 Polarizabilidade e Distncia Interatmica

    Existem outros modelos que, no lugar de considerarem a relao entre a

    polarizabilidade e o raio atmico, levam em conta a dependncia desta com a distncia

    interatmica, r. Entretanto, importante notar que, durante a variao do volume do

  • 32

    material, as variaes relativas dos raios atmicos e da distncia interatmica esto

    diretamente correlacionadas.

    Os modelos que consideram a dependncia explcita com a distncia interatmica,

    esto baseados em comparaes sistemticas do comportamento da polarizabilidade de

    um dado on em diferentes compostos, com diferentes distncias interatmicas.

    Para compostos inicos, a polarizabilidade dos ctions geralmente pequena,

    comparada dos nions, conforme mostra a Tab.I-1. Portanto, a maioria dos modelos

    existentes apresenta uma relao para a polarizabilidade dos nions em funo da

    distncia interatmica, assumindo que a dos ctions permanea praticamente constante.

    Como consequncia da carncia de resultados experimentais em altas presses,

    uma anlise que considere a influncia direta da variao de volume sobre o

    comportamento da polarizabilidade dos tomos num determinado cristal, existe apenas

    para alguns casos e para presses menores que 1 GPa.

    A seguir descreveremos alguns modelos simples encontrados na literatura, que

    dependem apenas de um parmetro. Os demais modelos, ou no apresentam de forma

    explcita a dependncia com a distncia interatmica, ou dependem de uma srie de

    parmetros empricos, no disponveis para os materiais estudados no presente trabalho.

    -Modelos de Coker

    Segundo Coker [Co76], se os eltrons dos ons estiverem distribuidos numa

    cavidade esfrica, a polarizabilidade ser proporcional a r03, de forma anloga ao

    resultado anterior apresentado para tomos individuais (eq.(I-28)). Se os eltrons

    estiverem localizados numa casca esfrica, a polarizabilidade ser proporcional a ro4 .

    Levando em conta a correlao que existe entre raio atmico e distncia interatmica,

  • 33

    Coker props duas funes para a_, que se aproximam de if" para pequenos valores da

    distncia interatmica, r, e de a para grandes valores de r:

    a a - 1+ Cr'

    e:

    x"'-' =a1e' 1+ x+....+,

    in 1) ! )

    onde x=Cr, C um parmetro de ajuste e ni pode assumir os valores 3 ou 4.

    (I-30)

    (1-31)

    -Modelo de Wilson & Curtis

    Wilson & Curtis [WC70] apresentam um modelo alternativo, onde consideram

    que a polarizabilidade do nion sensvel ao ambiente cristalino e que a distribuio de

    eltrons na nuvem eletrnica est sujeita a uma fora compressiva F, provocada pela

    interao com os eltrons dos ons vizinhos. Um incremento dF na fora compressiva

    causaria um decrscimo na polarizabilidade e no volume efetivo do i-simo on, ou seja:

    da, = -kia,dFi (1-32)

    onde k, uma constante anloga compressibilidade. Integrando esta relao, obtm-se:

    lna, = lna,' - k,F, (1-33)

    A fora repulsiva pode ser obtida a partir da energia potencial cristalina U, escrita

    como a soma de um termo de interao Coulombiana com um potencial repulsivo R(r):

    U = -ame2/r + R(r) (1-34)

    onde am a constante de Madelung. Na distncia interatmica de equilbrio, a fora

    resultante sobre o nion deve ser nula, ou seja, ocorre um balano entre as contribuies

    atrativas e repulsivas. Neste caso, a derivada da energia potencial nula:

  • 34

    dU/dr = ame2/r2 4 dl?(r)/dr = O (1-35)

    Logo, a fora repulsiva, que proporcional derivada primeira do potencial repulsivo,

    ser dada por:

    -dR(r)/dr ame2/r2 (1-36)

    Substituindo na eq.(I-33), obtm-se a seguinte expresso para a variao da

    polarizabilidade do nion com a distncia interatmica, independente da forma explcita

    do potencial repulsivo:

    = exp(-bi/r2) (1-37)

    onde b i=k,ame2

    Os modelos de Coker e Wilson & Curtis foram testados para os halogenetos de

    metais alcalinos, atravs da comparao entre os valores calculados para a

    polarizabilidade dos nions no estado livre e os valores encontrados na literatura. A

    concordncia razovel para todos os casos. No presente trabalho estes modelos sero

    testados considerando-se a variao da distncia interatmica pela presso.

    1.2-1.4 Polarizabilidade e Frequncia do Campo Incidente

    O modelo clssico do oscilador harmnico de Drude-Lorentz [RMC82], descrito

    a seguir, permite relacionar a polarizabilidade frequncia do campo incidente e s

    propriedades atmicas do sistema. As grandezas envolvidas so diretamente comparveis

    s utilizadas no tratamento quntico sobre o ndice de refrao, conforme ser visto na

    seo 1.2-2.

  • 35

    No presente modelo os eltrons so tratados como osciladores harmnicos, ou

    seja, como partculas presas a uma posio de equilbrio por uma fora restauradora

    linear. Considera-se que haja amortecimento no movimento, introduzindo-se uma fora

    proporcional velocidade dos eltrons. Na presena de uma onda eletromagntica o

    oscilador impelido pelo campo eltrico e a resposta do meio obtida somando-se a

    contribuio dos movimentos de todas as partculas.

    Para determinar o deslocamento das partculas, utiliza-se a equao de

    movimento clssica para um oscilador harmnico amortecido unidimensional:

    d 2 x dx 2 e dt2 +b

    dt+ co

    '

    x Eix (1-38)

    onde e e In so a carga e a massa do oscilador, b a constante de amortecimento e wo

    a frequncia natural do oscilador no amortecido, relacionada massa e ao raio atmico.

    O campo local o mesmo calculado no modelo de Lorentz-Lorenz, eq.(I-7).

    Considera-se que os campos eltricos envolvidos e a polarizao resultante dependam

    periodicamente da posio e do tempo, com comprimento de onda muito maior que as

    dimenses da regio onde a partcula se desloca. Neste caso, o campo local pode ser

    considerado uniforme, pois sua variao espacial desprezvel na vizinhana da

    partcula.

    Usando a seguinte soluo tentativa para a equao diferencial acima:

    x(t) = (1-3 9)

    onde w a frequncia do campo local, obtm-se para a amplitude do movimento, x,

    e

    x ni (coo2 2 .b 1 co (I-40)

  • 36

    O deslocamento da partcula ser, ento, proporcional ao campo impulsor, E10,, e

    assumir valores grandes quando a frequncia do campo, co, for prxima frequncia

    natural do oscilador, coo.

    O momento de diplo associado ao deslocamento da partcula ser igual ex, e a

    polarizao resultante, caso haja N osciladores iguais por unidade de volume, ser:

    P=Nex. Seguindo um procedimento anlogo ao caso da abordagem de Lorentz-Lorenz:

    P = Nex

    = xE

    (e-1) E

    471-

    Substituindo as expresses para o campo local, eq. (1-7), e para a amplitude do

    movimento, xo, obtm-se:

    4ir e2 1 N (1-41) e+2 3 m (002 _ w2 ma)

    Geralmente as partculas carregadas de um material apresentam propriedades

    diferentes umas das outras. Pode-se generalizar a relao acima, considerando que haja

    N, partculas com frequncia natural w,, e parmetro de amortecimento bi, porm ainda

    todas com a mesma carga e mesma massa. Ento:

    s-1 4ff e2 1 2

    e + 2 3 m , (co w 2 th,o) (1-42)

    Definindo fi como sendo a frao de osciladores do tipo i, fi=N/N, e considerando o caso de frequncias na faixa do visvel, obtemos:

    n2 - 1 471- e2

    ri 2 + 2 3 N

    171 , (C002 - co 2 ibw) (1-43)

  • 37

    Comparando a equao acima com a relao de Lorentz-Lorenz, eq. (1-12), chega-se a

    seguinte expresso para a polarizabilidade, agora levando em conta explicitamente as

    propriedades das partculas envolvidas no processo de polarizao do material:

    e2

    a m(0)02, w2 (0) (1-44)

    Este resultado semelhante ao que pode ser obtido atravs do formalismo da

    Mecnica Quntica, conforme ser visto na prxima seo.

    1.2-2 Polarizabilidade e Mecnica Quntica

    Um campo eltrico incidindo sobre um sistema quntico provoca alteraes nas

    suas autofunes e autovalores de energia, devido interao que ocorre com as

    partculas carregadas do meio. Esta interao, para campos de baixa intensidade, pode

    ser considerada como uma perturbao ao sistema. A soluo da equao de

    Schrdinger para o sistema perturbado permite, ento, determinar uma expresso para a

    polarizabilidade eletrnica dos tomos, baseada em primeiros princpios [Da66].

    A equao de Schrdinger para o sistema perturbado pode ser escrita como:

    (in Hjiii = (1-45)

    onde H o operador Hamiltoniano do sistema no perturbado, e -er.E o operador de

    interao entre uma partcula de carga e com um campo eletromagntico na aproximao

    de diplo eltrico.

    O campo eltrico pode ser representado por:

    E = E, coscot (1-46)

  • 38

    onde w a frequncia incidente.

    Sejam q as autofunes e En, os autovalores do operador no perturbado, H. A

    teoria de perturbao de primeira ordem conduz ao seguinte resultado para a autofuno

    do m-simo estado do sistema perturbado [Da66]:

    { wm = (P m 1[a nikemnt e bmke1 q9 k k (1-47)

    onde com=E,/h. Substituindo as expresses para o campo eltrico e para a autofuno

    perturbada, eqs. (1-46) e (1-47), na equao de Schrdinger, eq. (1-45), obtm-se as

    seguintes expresses para os coeficientes an& e bnik:

    a il,

    bmk

    n 211(con, co)

    2h(a)mk + a)) eE 0 (kirim)

    eE 0 (kirlm)

    (1-48)

    onde (kirlm) = q9,:r ,dr , e co,k conrcok.

    Este resultado vlido para frequncias do campo incidente longe da condio

    de ressonncia, ou seja, diferentes de com),

    O valor mdio do momento de diplo eltrico induzido pela interao com o

    campo incidente para o m-simo estado, correspondente funo de onda perturbada,

    dado por:

    fim = igni* (er)v,,,cly (1-49)

    Utilizando a funo de onda, eq. (1-47), com os respectivos coeficientes an,k e bnik,

    obtm-se a seguinte expresso, considerando apenas os termos de primeira ordem:

    2e 2 co,,,(mirik)(kirim) 14, = e(mirini) E, cosa)! (1-50) 2

    co 2 )

  • 39

    O primeiro termo corresponde ao momento de diplo eltrico permanente do

    sistema no estado m. Para estados com paridade definida, o elemento de matriz (mirim)

    nulo. O segundo termo apresenta a mesma variao temporal que o campo eltrico

    incidente, ou seja, o momento de diplo induzido tem a mesma frequncia do campo

    aplicado.

    O momento de diplo induzido , portanto, proporcional ao campo, e tambm

    pode ser escrito como:

    onde a a polarizabilidade eletrnica. A partir da eq.(I-50), chega-se a seguinte

    expresso para a, baseada em primeiros princpios:

    ,2e 2 COnik KM1r102 2_, 2 fi(CO pnk CO2 ) (I-51)

    Os elementos de matriz evidenciam a dependncia da polarizabilidade com as possveis

    transies entre estados do sistema, provocadas pelo campo eltrico incidente.

    Introduzindo a quantidade adimensional:

    2n1co,l(kirim)12 fkm

    -h (1-52)

    denominada intensidade de oscilador ("oscillator strength") para a transio do estado m

    para o estado k, a polarizabilidade pode ser escrita como:

    e2 fkm a =

    k (11) km C 2 (1-53)

    Este resultado pode ser diretamente comparado ao resultado clssico obtido no

    modelo de Drude-Lorentz, eq. (1-44). Os elementos de matriz f, correspondem,

    portanto, frao de osciladores do tipo km, e cokm corresponde frequncia natural de

    vibrao deste tipo de oscilador.

  • 40

    O clculo da polarizabilidade requer o conhecimento das funes de onda e

    autovalores de todos os estados do sistema quntico. Estes dados so conhecidos apenas

    para o tomo de hidrognio e para outros sistemas simples, onde no se incluem os

    materiais estudados no presente trabalho. No caso de sistemas atmicos complexos, as

    funes de onda podem ser estimadas a partir de mtodos de aproximao.

    Para relacionar a polarizabilidade eletrnica ao ndice de refrao, utiliza-se as

    relaes clssicas de Drude e Lorentz-Lorenz, apresentadas na seo I.1. Entretanto,

    dada a complexidade da expresso obtida para a partindo de primeiros princpios (eq. I-

    51), torna-se praticamente impossvel obter uma relao geral e simples para o ndice de

    refrao em funo de grandezas experimentais.

    Todavia, o resultado quntico serve de referncia para os demais modelos, bem

    como, de ponto de partida para novos modelos propostos. A eq.(I-51) sugere, por

    exemplo, que a polarizabilidade deve ser inversamente proporcional ao intervalo de

    energias do sistema, uma vez que depende de COkm-2 . Neste contexto, existe na literatura

    uma srie de modelos empricos propondo uma relao para o ndice de refrao em

    funo da banda de energia proibida do material, conforme ser apresentado na prxima

    seo.

    1.3 ndice de Refrao e Banda de Energia Proibida

    Dada a complexidade dos clculos ab initio, alguns autores propem modelos

    empricos simples, relacionando diretamente o ndice de refrao banda de energia

    proibida dos materiais [HV94], [RAS93], [Ru84], sem introduzir o conceito de

    polarizabilidade eletrnica.

  • 41

    Apesar da complexidade dos clculos envolvendo autoestados ou bandas de

    energia, a banda de energia proibida um parmetro que tem imagem fisica de fcil

    interpretao, pode ser determinado experimentalmente e conhecido para a maioria dos

    compostos cristalinos.

    Do ponto de vista tecnolgico, a determinao da banda de energia proibida de

    fundamental importncia para o uso em janelas para radiao eletromagntica. A largura

    da faixa de energia que pode ser transmitida e a correspondente regio do espectro, so

    caractersticas individuais de cada material.

    Os modelos encontrados na literatura pretendem correlacionar o ndice de

    refrao e a banda de energia proibida para a maior quantidade possvel de materiais

    diferentes, com objetivo de determinar o ndice de refrao de novos materiais.

    Entretanto, importante destacar que os modelos so empricos e os autores, exceto

    quando indicado, no apresentam uma base fisica para as relaes propostas.

    Os modelos encontrados so apresentados a seguir.

    -Modelo de Moss:

    Moss [Mo50] em 1950, props a primeira relao simples entre ndice de

    refrao e banda de energia proibida, Eg, baseado no fato de que os nveis de energia

    eletrnicos num slido cristalino so inversamente proporcionais ao quadrado da

    constante dieltrica. Ento:

    4 gr,g n r, =constante (1-54)

    onde a constante da ordem de 95 eV. Este modelo limitado aos semicondutores com

    estrutura do diamante ou do tipo blenda de zinco.

  • 42

    -Modelo de Gupta e Ravindra:

    Gupta e Ravindra [GR80], considerando a validade limitada da relao de Moss,

    analisaram os valores de n e Eg para uma srie de semicondutores, e encontraram uma

    relao linear, independente da estrutura cristalina do material, do tipo:

    n = 4,084 - 0,62Eg (1-55)

    onde Eg o valor numrico do "band gap" expresso em eV. Segundo Moss a relao

    acima aplicvel apenas para compostos com Eg da ordem de 4 eV [Mo85].

    Ravindra et al. [RAS79] comentam sobre a dificuldade de justificar as relaes de

    Gupta & Ravindra, e de Moss, segundo a teoria de bandas do material.

    -Modelo de Ruoff:

    A relao proposta por Ruoff [Ru84] : 2 7-

    n r,g =constante (1-56)

    vlida para slidos de gases nobres, halogenetos e calcogenetos de metais alcalinos,

    incluindo os xidos. O valor da constante da ordem de 21.3 eV, sendo que a disperso

    para os quarenta materiais considerados atinge valores de at 50%.

    O autor comenta que uma relao do tipo inversa entre o ndice de refrao e a

    banda de energia proibida esperada mas, aparentemente, no h uma fundamentao

    terica para esse tipo de dependncia. Ele sugere que seria interessante testar a relao

    acima para um dado sistema sob presso, onde ocorrem variaes significativas nas duas

    grandezas envolvidas. Porm inexistiam resultados experimentais numa faixa de presso

    considervel para faz-lo, exceto para o xennio, que apresentou concordncia razovel

    at 44 GPa.

  • 43

    -Modelo de Reddy Anjaneyulu & Sarma

    Reddy et al. [RAS93] propuseram uma relao exponencial da forma:

    Egen =constante (1-57)

    onde o valor da constante da ordem de 36.3 eV. Esta relao foi testada para 60

    compostos binrios, sendo que os valores estimados para o ndice de refrao concordam

    razoavelmente bem com os valores experimentais disponveis.

    - Modelo de Herv & Vandamme

    Herv e Vandamme [HV94] recentemente propuseram a seguinte forma

    alternativa:

    =

    5 ( A Y 1+1 Eg+13)I (1-58)

    onde A=13.6 eV, correspondente energia do estado fundamental do tomo de

    Hidrognio, e B=3.4 eV. Esta equao foi obtida considerando os resultados da teoria

    oscilatria para o movimento dos tomos na rede, relacionados disperso para a

    constante dieltrica em funo da frequncia do campo incidente.

    Esta relao foi testada para mais de 100 compostos, inclusive ternrios e

    quaternrios. A concordncia satisfatria para a maior parte dos materiais

    semicondutores utilizados em estruturas optoeletrnicas, e para materiais com banda

    proibida na regio de alta energia. Entretanto, ele no descreve bem o comportamento

    para materiais do grupo IV-IV.

    Todas as relaes propostas tm a seguinte caracterstica em comum: quanto

    maior a banda de energia proibida de um material, menor ser o valor do ndice de

    refrao correspondente. Esta proporcionalidade inversa descrita de diversas maneiras,

  • 44

    usando potncias ou relaes exponenciais. O valor calculado para o ndice de refrao a

    partir da banda de energia proibida comparado com o valor obtido experimentalmente.

    De fato, os compostos semicondutores apresentam ndices de refrao maiores do que os

    compostos isolantes.

    Nenhum dos trabalhos encontrados verifica a validade da relao proposta para

    materiais submetidos variao do volume. Somente para os materiais superduros

    encontra-se na literatura resultados experimentais sobre a variao da banda de energia

    proibida com a presso, os quais, juntamente com os resultados experimentais obtidos

    para n(P), viabilizam o teste dos modelos empricos. Este teste ser apresentado durante

    a anlise dos resultados, no captulo V.

  • 45

    II. PROPRIEDADES FSICAS DOS MATERIAIS ESTUDADOS

    Conforme foi apresentado na Introduo, os nove materiais selecionados para o

    presente trabalho podem ser classificados em trs grupos: os fluoretos, LiF, MgF2 e

    CaF2, que so tipicamente inicos, largamente usados como janelas ticas, devido ao

    grande banda de energia proibida (cerca de 10 eV); os xidos, A1203, e Zr02 cbica e

    monoclnica, que so parcialmente inicos e tm vrias aplicaes tecnolgicas

    importantes; e os materiais superduros, diamante, c-BN e 3C-SiC, que so tipicamente

    covalentes, so compostos simples, porm com propriedades fisicas interessantes para a

    pesquisa bsica e aplicada. Todos os materiais selecionados so transparentes na regio

    do visvel e, com exceo da Zr02 monoclnica, no sofrem transformao de fase na

    regio de presso estudada.

    O objetivo do presente captulo apresentar as caractersticas fisicas gerais dos

    compostos estudados, fornecer detalhes sobre suas estruturas cristalinas e as

    configuraes eletrnicas dos tomos envolvidos. Estas informaes so importantes

    para a anlise dos resultados obtidos, onde o comportamento dos tomos responsvel

    pela resposta tica do sistema submetido alta presso.

    Exceto quando indicado, as figuras e os parmetros de rede foram retirados da

    referncia [Wy63] e os raios inicos ou atmicos da referncia [Ki67]. Os dados

    relativos compressibilidade destes materiais e seus respectivos ndices de refrao

    presso ambiente sero apresentados conjuntamente no captulo IV.

  • 46

    Fluoretos

    11.1-1 LiF

    Este halogeneto alcalino possui estrutura do tipo NaCI, conforme mostra a

    Fig.II-1, e altamente inico. um material bastante usado em janelas ticas pois

    transparente para energias at cerca de 13 eV, que corresponde regio do ultravioleta.

    As configuraes eletrnicas dos ons Li e F so equivalentes a dos gases

    nobres de hlio e nenio, respectivamente, com camadas eletrnicas fechadas e

    distribuies de carga esfericamente simtricas. A razo entre os raios do ction e do

    nion uma das menores dentre os halogenetos alcalinos e, por consequncia, a

    interao repulsiva entre ons negativos vizinhos deve ser significativa, acarretando em

    possveis distores na distribuio de carga na regio de maior proximidade entre eles

    (ao longo da diagonal das faces da clula unitria). O pequeno valor da

    compressibilidade do LiF tambm deve estar relacionado s interaes de curto alcance

    entre os nions vizinhos.

    - Configuraes eletrnicas:

    1s2 ; F: 1s2 2s2 2p6

    - Raios fnicos:

    o = 0.68 A e rF: = 1.33 A

    - Parmetro de rede:

    ao = 4.0173 A

    Fig.II-1 Estrutura NaCI. As esferas maiores correspondem ao nion.

  • 47

    11.1-2 CaF2

    Este composto apresenta uma rede cbica (estrutura da fluorita), contendo

    quatro molculas por clula unitria, mostrada na Fig.II-2. A ligao qumica

    predominantemente inica. A estrutura da fluorita um pouco mais complicada que a do

    NaCl, e uma das principais diferenas a falta de simetria de inverso nos stios dos

    nions na fluorita.

    Neste caso o ction particularmente grande em comparao ao nion e

    praticamente no existe contato entre os nions na estrutura cristalina.

    A fluorita, tal como o LiF, tambm bastante usada em janelas ticas devido

    transparncia desde a regio do infravermelho at a do ultravioleta. Alm disso, o

    composto CaF2 apresenta dureza relativamente elevada, durabilidade, insolubilidade em

    gua e bom comportamento frente a polimentos finais [Ha82].

    - Configuraes eletrnicas:

    ca E2 s22s22p63 s23 p6 ;

    1s2 2s2 2p6

    - Raios jnicos: o o

    Tca+2 = 0.94 A e rF = 1.33 A

    - Parmetro de rede:

    ao = 5.46295 A

    Fig.II-2 Estrutura da fluorita, com tamanhos esperados para os ons. As esferas maiores correspondem ao nion.

  • 48

    11.1-3 MgF2

    A rede cristalina, neste caso, tetragonal, com estrutura do tipo cassiterita

    (Sn02), tambm chamada de rutila (TiO2), contendo duas molculas por clula unitria,

    conforme mostra a Fig.II-3. Os parmetros de rede so tais que c

  • 49

    radiao de alta energia. Por ser um material naturalmente birrefringente, tambm

    bastante usado como polarizador e placas retardadoras de onda.

    Nenhum dos trs fluoretos estudados apresenta transformao de fase na regio

    de presso estudada no presente trabalho, ou seja, at 8 GPa. Existem, na literatura,

    resultados experimentais sobre a dependncia do ndice de refrao com a presso para

    LiF e CaF2 apenas at 0,7 GPa. Para MgF2 esta dependncia foi calculada a partir das

    constantes fotoelsticas, relacionadas ao comportamento do ndice de refrao quando

    so aplicadas presses uniaxiais em determinadas direes cristalinas do material. As

    presses utilizadas nestes casos so muito baixas, menores do que 0.1 GPa.

    Do ponto de vista de propriedades fsicas relevantes para a anlise do

    comportamento do ndice de refrao com a presso, estes trs fluoretos so compostos

    essencialmente inicos, e a imagem de entidades individuais localizadas, polarizveis na

    presena de um campo eltrico, bastante razovel. Tanto para o LiF quanto para o

    MgF2, o ction pequeno comparado ao nion, sendo possvel considerar apenas a

    variao da polarizabilidade do flor durante a compresso da rede. Para o CaF2, esta

    aproximao tambm pode ser considerada, apesar do ction ter dimenses relativamente

    grandes. A comparao dos resultados experimentais para os trs casos, permitir

    analisar o comportamento da polarizabilidade do flor em trs estruturas cristalinas

    diferentes, contendo ons vizinhos diferentes.

  • 50

    11.2 xidos

    0.2-1 MgO

    Os compostos formados por elementos alcalinos terrosos e oxignio, como o

    MgO, apresentam estrutura cristalina do tipo NaCI (Fig.II-1). A distribuio de carga

    eltrica menos localizada que nos halogenetos alcalinos, implicando num maior grau de

    covalncia nas ligaes qumicas.

    A razo entre os raios do ction e do nion para o MgO pequena (0.47 [Ki67])

    e a polarizabilidade do on Mg pode ser considerada constante e desprezvel frente do

    oxignio. Devido proximidade entre os nions, as contribuies repulsivas de curto

    alcance tm papel importante na interao entre os tomos de oxignio.

    As configuraes eletrnicas e os raios inicos so dados por:

    o Mg+2:1s22s22p6

    rmg+2 = 0.65 A

    o O-2: is2 2s2 2p6 ro-2 = 1.46 A

    O parmetro de rede a=4.213 A [SB71].

    A alta temperatura de fuso e inrcia qumica do MgO, viabilizam uma srie de

    aplicaes tecnolgicas e estudos em altas temperaturas. A grande banda de energia

    proibida deste composto tambm explorada em janelas e dispositivos ticos.

    Os resultados para a variao do ndice de refrao com a presso do MgO foram

    obtidos durante o trabalho de Mestrado. Revelam um decrscimo praticamente linear

    deste parmetro no intervalo de presso estudado, at 10 GPa. Resultados anteriores so

    encontrados na literatura apenas para a regio at 0,7 GPa, mostrando excelente

    concordncia com os nossos resultados.

  • 51

    11.2-2 A1203

    Devido sua dureza elevada e boa transparncia na regio do visvel, a safira (a-

    A1203) tambm um material bastante usado como janela tica, inclusive em cmaras de alta presso, quando necessrio uma janela com faixa transparente maior que a do diamante.

    A estrutura cristalina da safira do tipo "corundum", a qual pode ser indexada

    como rombodrica ou hexagonal (Fig.II-4). Sob a ao de presso hidrosttica tanto o

    ngulo rombodrico como as distncias interatmicas diminuem praticamente na mesma

    proporo, ou seja, a compresso da safira bastante isotrpica [SA79], o que facilita a

    interpretao dos resultados envolvendo variao de volume.

    A safira um material birrefringente uniaxial, com os ndices de refrao

    ordinrio e extraordinrio dados, respectivamente, por: no=I.768 e ne=1.760 presso

    ambiente [DV67]. Na literatura existe um estudo experimental sobre a dependncia do

    ndice de refrao com a presso da safira at 0,7 GPa [DV67], onde foi observado um

    decrscimo praticamente linear para os ndices ordinrio e extraordinrio. Do ponto de

    vista de pesquisa bsica, seria interessante estender a regio de presso estudada para

    investigar a possvel existncia de efeitos no lineares nas propriedades ticas da safira.

    Alm disso, como este material usado como janela tica em cmaras de alta presso,

    importante conhecer de antemo o comportamento do ndice de refrao da safira

    submetida a altas presses.

  • 52

    - Configuraes eletrnicas:

    Ar3:1 s22s22p6 ; O-2: s2 2s2 2p6

    - Raios inicos:

    o o rAl+3 = 0.45 A e ro-2 = 1.46 A

    - Parmetros de rede:

    rombodricos: a0=5.128 A ; a=5520'

    o hexagonais: a0=4.76280 A ; c0=13.00320 A

    Fig.II-4 Estrutura cristalina da safira. As esferas maiores correspondem ao oxignio.

    11.2-3 ZrO2

    A zircnia (ZrO2) um dos materiais cermicos mais estudados atualmente

    devido s suas diversas propriedades fisicas e tecnolgicas importantes. Na literatura

    encontram-se vrios estudos envolvendo diagrama de fases, estabilizao, clculos sobre

    estrutura de bandas de energia e sobre energia livre. Do ponto de vista de aplicaes

    tecnolgicas, as propriedades relevantes da zircnia so, dentre outras, seu alto ndice de

    refrao, alta dureza, estabilidade em atmosfera oxidante mesmo a temperaturas

    elevadas, resistncia abraso, tenacidade, etc.

    O mineral badeleita, ZrO2, apresenta estrutura cristalina do tipo fluorita

    distorcida, com rede monoclinica, onde o arranjo dos tomos tal que os tomos de

    zircnio possuem nmero de coordenao igual a sete, conforme indica a Fig. 11.5. Os

    tomos de oxignio tm coordenaes diferentes, sendo que os do tipo 01 tm trs

    ctions como vizinhos, enquanto que os do tipo 011 tm quatro ctions vizinhos. Os

  • 53

    tomos Ou formam um quadrado planar que corresponde metade de um arranjo cbico

    normal, e os tomos 01 formam uma espcie de tringulo irregular cujo plano

    aproximadamente parelelo ao dos tomos O. Os tomos de zircnio formam camadas

    paralelas ao plano (100), separando os dois tipos de oxignio. A estrutura complexa da

    fase monoclnica sugere uma ligao apreciavelmente covalente entre os tomos

    [SMS74].

    No presente trabalho foram consideradas as fases monoclnica (fase estvel

    presso e temperatura ambientes) e cbica (estabilizada com Y203). Ambas so similares

    quanto s distncias entre os tomos e ao nmero de coordenao [LCP93].

    A fase cbica, estabilizada com Y203, do tipo fluorita , onde alguns tomos de

    zircnio (Zr") so aleatoriamente substituidos por tomos de leio (Y+3), gerando

    vacncias de oxignio para manter a neutralidade eltrica. Em geral a quantidade de

    dopante utilizada varia na faixa de 8 a 20%. Neste trabalho a quantidade de Y203

    presente na zircnia utilizada foi de 20%, e as propriedades elsticas consideradas foram

    para esta quantidade de dopante. As propriedades mecnicas e eltricas da zircnia

    estabilizada so notveis, gerando uma srie de aplicaes como, por exemplo, sensores

    de oxignio, coberturas eletrolticas, componentes estruturais, etc [LCP93]. Entretanto,

    estudos tericos e experimentais so complicados devido aos defeitos atmicos e

    presena dos dopantes estabilizadores.

    A fase cbica estabilizada no sofre transformao de fase na regio at 9 GPa,

    enquanto que a fase monoclnica transiciona para uma fase ortorrmbica em presses da

    ordem de 3.5 GPa. No foi encontrado na literatura nenhum estudo sobre a dependncia

    do ndice de refrao da zircnia com a presso.

  • 54

    (a) (b) (c) ta) Fig.II-5 Aspectos das estruturas da zircnia: (a) e (b) monoclnica; (c) cbica idealizada (fluorita), e (d) cbica estabilizada. Crculos escuros representam tomos de Zircnio, crculos abertos, tomos de Oxignio e quadrados, vacncias de oxignio.

    A configurao eletrnica dada por:

    Zr+4: 1s22s22p63 s23 p64 s23 d' 4p6

    Y+3 : 3 s23p64s23e4p6

    0-2 : 1 s22s22p6

    e os parmetros de rede correspondentes so:

    - fase monoclnica [LTA+93]:

    ao= 5.138 A; bo= 5.214 ; co= 5.314 A

    13= 99.09

    - fase cbica [LPF+87]:

    ao= 5.15

    Os raios inicos nas respectivas configuraes de gases nobres so:

    o rz,44 = 0.77 A , ry+3 = 0.88 A e ro-2 = 1.46 A

  • 55

    11.3 Materiais Superduros

    Os trs materiais superduros estudados so slidos essencialmente covalentes,

    contendo tomos pequenos em arranjos cristalinos cbicos. Dentre as propriedades

    importantes destes materiais, encontram-se a dureza e a condutividade trmica elevadas,

    e a baixa condutividade eltrica. Alm disso, apesar de serem semicondutores, os

    intervalos proibidos de energia so relativamente altos, garantindo boa transparncia na

    regio do visvel.

    Os materiais selecionados representam trs casos importantes para os

    semicondutores: o diamante do tipo IV; c-BN do tipo III-V, e o 3C-SiC, do tipo

    IV-IV. O comportamento do ndice de refrao durante a variao do volume pode

    fornecer informaes interessantes sobre a interao entre os tomos nestes trs tipos de

    materiais.

    O uso do conceito de polarizabilidade eletrnica, baseado em entidades

    individuais localizadas, torna-se discutvel para materiais covalentes, uma vez que as

    ligaes entre os tomos so direcionais e ocorre o compartilhamento de eltrons. Uma

    alternativa interessante para estes casos, estudar o comportamento do ndice de

    refrao considerando-se modelos que utilizem o conceito de banda de energia proibida,

    que um parmetro de grande significado fisico para estes materiais.

    A seguir, sero apresentadas algumas caractersticas individuais de cada um dos

    materiais superduros estudados.

  • 56

    11.3-1 Diamante

    O diamante um cristal covalente ideal, homopolar, sendo o material com maior

    dureza e menor compressibilidade conhecido at hoje. Do ponto de vista tecnolgico,

    existem diversas aplicaes para o diamante como, por exemplo: o uso do p de

    diamante em serras e rebolos para o corte de materiais duros; o uso como abrasivo em

    geral; o uso como substrato para dispositivos de micro-eletrnica devido a altssima

    condutividade trmica do diamante, cerca de cinco vezes maior do que a do cobre; o uso

    em lminas cirrgicas para cortes precisos; a utilizao para fabricao de bigornas de

    diamante para cmaras de alta presso, atingindo-se limites nunca antes alcanados,

    graas alta dureza deste material; uso em sensores de temperatura e radiao. O alto

    ndice de refrao e sua disperso tica so explorados tambm na joalheria. A origem

    das propriedades peculiares do diamante ainda objeto de estudos tericos e

    experimentais. Grande parte dos trabalhos existentes na literatura, entretanto, esto

    relacionados obteno de diamante sinttico a partir do grafite, termodinmica da

    transformao de fase, funo dos catalisadores, etc.

    Monocristais de diamante so, em geral, transparentes, apresentando diferentes

    coloraes: amarelo, rosa, verde e azul, dependendo do tipo de impureza presente na

    estrutura cristalina. Diamantes de alta pureza (tipo 2A) so transparentes a partir de 230

    nm na regio do ultravioleta, ocorrendo uma fraca absoro no infravermelho, entre 2 e

    6 11111. Seu intervalo de transparncia chega a 6 eV. A alta condutividade trmica, o baixo

    coeficiente de expanso trmica e a baixa absoro tica do diamante do tipo 2A, fazem

    com que ele seja o material ideal para ser usado como janela de sada para lasers de alta

    potncia. Alm disso, a inrcia qumica do diamante uma propriedade importante para

  • 57

    uso em espectroscopia envolvendo ambientes hostis ( anlise de sais de urnio e misturas

    halognicas, etc).

    A rede cristalina do diamante cbica com oito tomos de carbono. Cada um

    deles tem quatro vizinhos eqidistantes nas extremidades de um tetraedro regular,

    conforme o desenho de sua estrutura, mostrado na Fig. 11-6.

    Na regio de presso estudada neste trabalho, at 10 GPa, o diamante no

    apresenta mudana de fase. Na literatura existem resultados experimentais para a

    dependncia do ndice de refrao com a presso apenas para a regio de baixa presso,

    at 0,7 GPa [SKV68], sendo observado um decrscimo praticamente linear. Por ser um

    material de baixssima compressibilidade, s possvel obter variaes significativas de

    volume aplicando presses elevadas. Neste caso, podem surgir efeitos no lineares no

    comportamento do ndice de refrao com a presso, relacionados ao carter puramente

    covalente das ligaes qumicas.

    - Configurao eletrnica:

    C : 1s22s22p2

    - Raio atmico:

    r = 0.77 A

    - Parmetro de rede:

    a0=3.56679

    Fig.I1-6 Estrutura cristalina do diamante.

  • 11.3-2 c-BN

    O nitreto de boro cbico um material sinttico descoberto em 1957 por

    Wentorf [We57]. O diagrama de fases do BN anlogo ao do carbono, incluindo as

    fases para alta temperatura e presso, cujas estruturas e propriedades fisicas so

    semelhantes s do diamante [KWJ+89]. Nas condies normais de temperatura e

    presso, a fase estvel hexagonal, anloga do grafite. Acima de 4.5 GPa e

    temperaturas acima de 1500K, existem dois polimorfos, um equivalente ao diamante

    (estrutura cbica do tipo ZnS) e o outro, equivalente lonsdalita (estrutura hexagonal do

    tipo wurtzita). A fase cbica especialmente importante devido sua elevada dureza,

    abaixo apenas do diamante; sua inrcia qumica, importante na usinagem de materiais

    ferrosos; alta temperatura de fuso (acima de 3000 K) e alta condutividade trmica.

    Esta fase pode ser mantida meta-estavelmente a temperatura e presso ambientes, assim

    como o diamante.

    Devido s suas propriedades extraordinrias, c-BN vem sendo amplamente

    estudado desde a sua descoberta, tanto do ponto de vista terico, como experimental.

    Alm disso, ele o composto mais simples do grupo III-V, com configurao eletrnica

    e estrutural equivalente ao diamante. O c-BN tambm transparente na regio do visvel,

    comeando a absorver radiao com energia da ordem de 6 eV. A ligao qumica

    predominantemente covalente, porm o c-BN apresenta o maior carter inico dentre os

    compostos do grupo III-V.

    Do ponto de vista tecnolgico, a vantagem do c-BN em relao ao diamante

    sua inrcia qumica frente a materiais ferrosos, uma vez que o diamante interage

    58

  • 59

    quimicamente com o ferro e no pode ser usado, por exemplo, para o corte de materiais

    ferrosos em altas velocidades.

    A estrutura cristalina do c-BN do tipo blenda de zinco ("zinc-blende"), ZnS,

    contendo quatro molculas por clula unitria, conforme mostra a Fig.II-7. Cada tomo

    tem quatro tomos vizinhos eqidistantes do outro tipo, dispostos nos vrtices de um

    tetraedro regular. Se os tomos fossem iguais, esta seria a estrutura do diamante.

    - Configurao eletrnica original:

    B: 1 s22s22p1 ; N: 1s22s22p3

    - Raios atmicos:

    rB = 0.88 A ; rN = 0.70

    - Parmetro de rede:

    ao = 3.615 A

    Fig.I1-7 Estrutura cristalina do c-BN, do tipo ZnS.

    Este composto tambm no apresenta transio de fase na regio estudada e no

    foi encontrado na literatura nenhum resultado experimental para a dependncia do ndice

    de refrao com a presso.

    11.3-3 3C-SiC

    O carboneto de silcio um cristal polar do grupo IV-IV que pode apresentar-se

    sob a forma de vrias redes cristalinas estveis e regulares (cbica, hexagonal,

  • 60

    ortorrmbica) [CKH86]. Os vrios tipos de configuraes cristalinas existentes (mais de

    100 j foram observadas) tornam o SiC a substncia prottipo no que diz respeito ao politipismo.

    O carboneto de silcio tambm o nico composto do grupo IV-IV que

    apresenta estrutura do tipo ZnS e, portanto, pode ser considerado como um composto

    intermedirio entre os semicondutores III-V e os semicondutores com a estrutura do

    diamante, ou seja, C, Si, Ge, etc. O fato de conter um elemento da primeira linha da

    Tabela Peridica usualmente conduz a desvios do comportamento covalente normal.

    Apesar dos oito eltrons envolvidos na ligao serem fornecidos em igual nmero pelos

    dois constituintes, as ligaes no so simtricas devido diferena dos raios dos dois

    tomos. Alm disso, o forte potencial do carbono provoca um acmulo da densidade de

    carga em torno deste tomo. Analisando a distribuio de cargas, pode-se concluir que

    3C-SiC apresenta caractersticas tpicas tanto de ligaes inicas, como distribuies de

    carga esfricas e superpostas, centradas nos tomos, quanto de ligaes covalentes,

    como carga acumulada na regio de ligao entre os tomos [DH86].

    Tradicionalmente o SiC utilizado como abrasivo ("carborundum") e, devido

    sua alta estabilidade em temperatura e sua inrcia qumica, este composto tambm

    bastante usado como cermica refratria. Por ser um semicondutor de grande "gap",

    resistente a altas temperaturas e radiao, monocristais de SiC esto sendo

    intensamente investigados para aplicaes nas reas de eletrnica e tica sob condies

    especiais.

    Dentre as vrias fases existentes, no presente trabalho estudou-se o 3C-SiC por

    ser transparente na regio do visvel e ter rede cbica, com estrutura semelhante a dos

    demais materiais superduros estudados. A estrutura cristalina do tipo blenda de zinco e

    no sofre transformao de fase na regio de presso estudada. No foi encontrado na

  • 61

    literatura nenhum resultado experimental sobre a variao do ndice de refrao com a

    presso.

    Apesar de ser um material semicondutor, a banda de energia proibida

    relativamente alto, na faixa de 2.4 eV, correspondendo a uma transio do tipo indireta.

    Entretanto, em comparao com os demais materiais estudados, este o que apresenta a

    menor transparncia radiao.

    A Fig.II-7 apresenta a estrutura cristalina do tipo ZnS vlida tanto para o c-BN

    quanto para o 3C-SiC. As informaes adicionais so dadas a seguir:

    - Configurao eletrnica:

    Si: 1 s22s22p63 s23p2 ; C: 1s22s22p2

    - Raios atmicos:

    rsi = 1.17 A ; rc =0.77A

    - Parmetro de rede:

    a, = 4.348

  • 62

    III. TCNICA EXPERIMENTAL

    A presso e a temperatura so parmetros termodinmicos que determinam o

    volume de um material. O aumento da temperatura, alm da dilatao trmica, provoca

    agitao trmica nas partculas do meio, aumentando a entropia do sistema. O aumento

    da presso, por outro lado, provoca apenas a reduo do volume do material, de forma

    pura e controlvel, facilitando o clculo da variao da energia livre do sistema. Alm

    disso, a variao da energia livre provocada pelas presses elevadas que se pode atingir

    atualmente (maiores que 100 GPa), , em geral, superior variao provocada pelo

    aumento de temperatura at o ponto de fuso do material.

    O uso de altas presses representa, portanto, um recurso fundamental para

    estudos onde se faz necessrio obter variaes significativas do volume do material. A

    alta tecnologia envolvida na tcnica de gerao de altas presses, apesar de complexa,

    encontra-se bem estabelecida. Novas pesquisas continuam em andamento, tanto no

    processo de construo de prensas e cmaras, na busca de melhor desempenho dos

    materiais e projetos utilizados, como no estudo sobre a calibrao da presso.

    A cmara de bigornas de diamante (Diamond Anvil Cell - DAC), desenvolvida

    nas dcadas de 60 e 70, representa um marco fundamental na histria da Fsica de altas

    presses. Com esta cmara, cujas dimenses so da ordem de 15 cm, pode-se gerar as

    mais altas presses estticas obtidas em laboratrio, maiores que 100 GPa (1.000.000

    atm). A condio de hidrostaticidade pode ser mantida at cerca de 14 GPa, e as janelas

    de diamante so transparentes na regio do visvel at o ultravioleta prximo, e na regio

    de raios X, viabilizando diferentes tipos de investigaes fisicas sob presso.

  • 63

    A popularidade da DAC aumentou significativamente aps a descoberta, em

    1972, da tcnica de fluorescncia do rubi para a medida da presso in situ, de forma

    rpida, simples e precisa. Esta tcnica baseia-se no deslocamento, praticamente linear,

    das linhas de fluorescncia do rubi com a presso [BBP73].

    Neste captulo ser feita uma breve descrio sobre a cmara de bigornas de

    diamantes, a tcnica de fluorescncia do rubi para a medida da presso e o mtodo

    interferomtrico utilizado.

    III.1 Cmara de Bigornas de Diamante

    O ncleo de uma cmara de bigornas de diamante consiste em dois diamantes

    justapostos, lapidados na forma de brilhante com as pontas cortadas, formando duas

    superfcies planas com dimetro tpico da ordem de 0.5mm. Entre estas duas superficies

    coloca-se uma gaxeta metlica com um orificio central, dentro do qual so depositados a

    amostra, o calibrante de presso e um lquido para manter a condio de

    hidrostaticidade, conforme mostra a Fig.III-1(i). Uma srie de mecanismos acessrios

    garantem o alinhamento e o paralelismo entre os diamantes, uma vez que, apesar da sua

    alta dureza, o diamante bastante frgil e no resiste a tenses cizalhantes. A Fig. III-

    1() mostra detalhes da DAC utilizada no presente trabalho, a qual foi construida no prprio Instituto de Fsica da UFRGS, baseada num projeto de Piermarini e Block

    [PB75].

    A presso gerada pelo aperto do parafuso superior (ver Fig. III-1()), o qual

    comprime as molas Belleville, responsveis pela amplificao da fora exercida sobre as

    alavancas laterais. Estas, por sua vez, pressionam o diamante inferior, que encontra-se no

    pisto mvel, contra o diamante superior, que fixo na estrutura da DAC. A placa

  • -- diamante inferior orifcio

    (lquido, amostra, rubi)

    diamante superior

    gaxeta metlica

    (i)

    64

    pressionadora garante que a fora aplicada sobre o pisto seja sempre axial e uniformemente distribuida.

    Fig. 111-1 (1) forma dos diamantes da DAC, gaxeta metlica e orifcio para a amostra; (ii)-Cmara de bigornas de diamante. (a) placa pressionadora, (b) pisto, (c) suporte do diamante inferior com ajuste para paralelismo entre os diamantes, (d) gaxeta metlica, (e) suporte do diamante superior com ajuste translacional, (f) bigorna de diamante, (g) parafusos de ajuste, (h) suporte para a placa pressionadora, (i) molas Belleville, (j) parafuso superior.

  • 65

    No presente estudo foram utilizadas gaxetas de ao com orifcios centrais da

    ordem de 0.3mm. O lquido utilizado foi uma mistura de metanol, etanol e gua, na

    proporo de 16:3:1, a qual preserva a condio de hidrostaticidade at 12 GPa

    [LRC90].

    111.2 A Tcnica de Fluorescn