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4Coagulao qumica
A coagulao empregada para a remoo de material em suspenso ou
coloidal. Os colides so apresentados por partculas que tem uma faixa de
tamanho de 1 nm (10-7) a 0,1 nm (10-8), e causam cor e turbidez. As partculas
coloidais no sedimentam e no podem ser removidas por processos de
tratamento fsicos convencionais.
Os colides possuem propriedades eltricas que criam uma fora de
repulso que impede a aglomerao e a sedimentao. Na maior parte dos
efluentes industriais o colide possui carga negativa (Eckenfelder, 1989). Se
suas caractersticas no forem alteradas, permanecem no meio lquido. Para que
as impurezas possam ser removidas, preciso ento alterar algumas
caractersticas por meio da coagulao, floculao, sedimentao (ou flotao) e
filtrao.
comum referir-se aos sistemas coloidais como hidrfobos ou
suspensides quando repelem a gua, e como hidrfilos ou emulsides quandoapresentam afinidade com a gua (Di Bernardo, 2005).
A matria particulada na gua residuria na maior parte orgnica. As
condies de mistura e de floculao para a agregao de colides orgnicos
sero diferentes daquelas empregadas para colides inorgnicos: as superfcies
hidroflicas destas partculas orgnicas reagem diferentemente adio de
coagulante. Em geral, coagulante o produto qumico que adicionado para
desestabilizar as partculas coloidais de modo que possa formar o floco. Em
geral so utilizados sais de alumnio e ferro. Floculante o produto qumico,geralmente orgnico, adicionado para acentuar o processo de floculao
(Metcalf & Eddy, 2003). A maioria dos floculantes usados consiste em
polieletrlitos tais como derivados de poliacrilamida e de poliestireno (Bekri-
Abbes, Bayoudh e Baklouti, 2007).
A coagulao o processo de desestabilizao das partculas coloidais de
modo que o crescimento da partcula possa ocorrer em conseqncia das
colises entre partculas (Metcalf & Eddy, 2003). O papel do coagulante aqui
desestabilizar a suspenso coloidal reduzindo todas as foras atrativas, dessemodo abaixando a barreira de energia e permitindo partculas de se agregarem.
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Dependendo das propriedades fsicas e qumicas da soluo, do poluente e do
coagulante, um nmero de mecanismos de coagulao (por exemplo,
neutralizao da carga, compresso da dupla camada, formao de pontes e
arraste) foram postulados. A dosagem do produto qumico entrega o coagulante
como um sal que se dissocia na soluo com hidrlise do ction de alumnio (e
de nions associados) que determinam a especiao da soluo e pH. Adio
de alumnio (isto , sulfato de alumnio), por exemplo, acidifica a gua (Holt,
2002).
A coagulao, resulta de dois fenmenos: o primeiro, essencialmente
qumico, consiste nas reaes do coagulante com a gua e na formao de
espcies hidrolisadas com carga positiva e depende da concentrao do metal e
pH final da mistura; o segundo, fundamentalmente fsico, consiste no transporte
das espcies hidrolisadas para que haja contato entre as impurezas presentes
na gua. O processo muito rpido, variando desde dcimos de segundo a
cerca de 100 segundos, dependendo das demais caractersticas (pH,
temperatura, condutividade eltrica, concentrao de impurezas, etc.). Da em
diante h necessidade de agitao lenta, para que ocorram choques entre as
impurezas, que se aglomeram formando partculas maiores, denominadas
flocos, que podem ser removidos por sedimentao, flotao ou filtrao rpida.
Essa etapa denominada floculao (Di Bernardo, 2005). Uma caracterstica
essencial da floculao da gua residuria a eliminao dos slidos em
suspenso e do material orgnico tanto quanto possvel (Amuda e Alade, 2006).
O processo de coagulao/floculao pode ser usado como pr-tratamento
antecedente ao tratamento biolgico a fim de aumentar a biodegradabilidade da
gua residuria durante o tratamento biolgico. Se o tratamento fsico-qumico
feito no estgio inicial do tratamento de gua residuria for eficaz, a carga
orgnica em toda a fase biolgica subseqente ao tratamento estar ento
reduzida consideravelmente (Amuda e Amoo, 2006). A planta de tratamentocompleta ser mais compacta e ter maior eficincia de energia (Bhuptawat,
Folkard e Chaudhari, 2006).
As dosagens dos coagulantes variam em grande escala para maximizar a
eficincia de remoo dos poluentes, usando doses mnimas no pH timo
(Amuda e Alade, 2006).
As condies timas para a coagulao podem ser determinadas fazendo-
se o Jar Test. Estes testes podem ser usados para estabelecer o melhor tipo e a
melhor concentrao do coagulante, as condies apropriadas de mistura e astaxas de sedimentao floculenta para melhor remoo orgnica e/ou da
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toxicidade (Al-Mutairi, 2006 apud Adams et al., 1981). O procedimento de Jar
Testpode ser encontrado no Apndice C.
4.1Propriedades das partculas coloidais
As partculas coloidais tm uma rea superficial especfica muito alta e
conseqentemente seu comportamento na suspenso determinado na maior
parte pelas suas propriedades de superfcie (Casey, 1997).
Do ponto de vista energtico, algumas partculas coloidais so
termodinamicamente estveis e denominadas colides reversveis, incluindo as
molculas de detergente ou sabo (miscelas), protenas, amidos e algunspolmeros de grande cadeia. Outros colides, termodinamicamente instveis,
so denominados irreversveis, como argilas, xidos metlicos,
microorganismos, etc., e esto sujeitos coagulao. Alguns colides coagulam
rapidamente e outros, lentamente.
Os termos estvel e instvel muitas vezes so aplicados aos colides
irreversveis, referindo-se, porm, cintica da coagulao e no s
caractersticas termodinmicas e energticas. Um sistema coloidal cineticamente
estvel um sistema irreversvel ou termodinamicamente instvel, no qual acoagulao desprezvel; por outro lado, um sistema coloidal cineticamente
instvel um sistema coloidal irreversvel no qual a coagulao significativa.
So duas as formas de estabilidade das partculas e molculas:
i) estabilidade eletrosttica;
ii) estabilidade estrica.
Para cada condio de estabilidade so considerados dois aspectos (Di
Bernardo, 2005):a) estrutura da interface slido-lquido;
b) foras entre duas interfaces quando prximas entre si.
Segundo Faust & Aly (1998), citado por Di Bernardo (2005), os colides
so estveis em sistemas aquosos em razo de sua capacidade de hidratao
ou da carga eletrosttica em sua superfcie. Ambos os fenmenos dependem
essencialmente da estrutura qumica e da composio da superfcie da partcula
na interface com a gua (Figura 4.1). As molculas de gua, ctions e nions
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interagem com a superfcie da partcula por meio de ligaes inicas (energia de
ligao entre 150 e 200 kcal/mol), covalente (energia de ligao entre 50 e 100
kcal/mol), de hidrognio (energia de ligao de 1 a 10 kcal/mol) e polar (energia
de ligao menor que 5 kcal/mol). Alm das foras eletrostticas, h as foras de
atrao de van der Waals, decorrentes da polarizao induzida nas molculas e
tomos, que so fracas e apresentam energia de ligao similar s ligaes
polares. Por isso, a estabilizao eletrosttica a grande preocupao na
coagulao de partculas coloidais.
Figura 4.1 Interao entre partcula coloidal e gua de hidratao em sistemas
aquosos (Di Bernardo, 2005).
4.1.1Estabilizao eletrosttica
Na gua, a maior parte das partculas possui superfcie carregada
eletricamente, usualmente negativa e decorrente de trs fenmenos (Di
Bernardo, 2005):
a) grupos presentes na superfcie slida podem, ao reagir com a gua,
receber ou doar prtons:
substncias orgnicas contendo grupos carboxlicos e amina podem
reagir da seguinte forma:
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COOH COO-
R R + H+ (4.1)
NH3+ NH3
+
COO- COO-
R R + H+ (4.2)
NH3+ NH2
Nessas reaes, a carga superficial depende da concentrao de prtons
(H+) ou do pH da gua. Com o aumento do pH, diminui a concentrao de
prtons e o equilbrio das reaes acima se desloca para a direita e a molcula
orgnica torna-se mais negativa. Geralmente, grupos carboxlicos e amina
apresentam-se negativos para valores de pH maiores que 4 (Di Bernardo, 2005).
b) grupos superficiais podem reagir na gua com outros solutos alm de
prtons (por exemplo, considerando a slica como xido representativo):
SiOH + Ca2+ SiOCa+ + H+ (4.3)
A formao de complexos envolve reaes qumicas especficas entre
grupos da superfcie da partcula e solutos adsorvveis (ons fosfato, por
exemplo) e dependem do pH.
c) imperfeies na estrutura da partcula (substituio isomrfica) so
responsveis por parcela substancial da carga das argilas minerais;
tipicamente, plaquetas de slica tetradrica so cruzadas por plaquetas de
alumina octadrica, de modo que, se um tomo de silcio substitudo por
um de alumnio durante a formao da plaqueta, resulta carga superficial
negativa.
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-1
O O O O O O O O
Si Si Si Si Al Si
O O O O O O O O
Carga lquida = zero Carga lquida = -1
De forma semelhante, um ction divalente, como Mg2+ ou Fe2+, pode
substituir um tomo no xido de alumnio da estrutura octadrica, resultando
carga superficial negativa. O sinal e a magnitude da carga resultante de tais
substituies isomrficas so independentes das caractersticas da fase aquosa,
aps a formao do cristal.
Em decorrncia dos trs fenmenos, por meio dos quais os colides se
apresentam com carga superficial negativa, ocorre um balano com ons de
carga contrria presentes na gua e, por isso, um sistema coloidal no
apresenta carga eltrica lquida. Williams (1994), citado por Di Bernardo (2005),
comenta que a carga superficial, juntamente com a movimentao Browniana,
conduz formao da Dupla Camada Eltrica (DCE), formada pelas cargas
superficiais e pelo excesso de ons com carga oposta (contra-ons) adsorvidos
na partcula, deixando o meio circundante eletricamente neutro e mais adiante
da superfcie, e p co-ons (ons de mesma carga) distribudos de maneira difusa
no meio polar (Figura 4.2).
O modelo mais simples sobre a DCE considera a interface como um
dispositivo armazenador de carga, anlogo a um capacitor de placas paralelas.
Um modelo mais realista envolve a diviso da dupla camada em duas regies,
Camada Compacta (CC), Stern, e Camada Difusa (CD), conforme mostrado na
Figura 4.3. Sendo negativa a superfcie da partcula, h acmulo de ons
positivos na regio da interface slido-lquido, formando, juntamente com a carga
negativa da partcula, a CC. ons negativos aproximam-se da CC e, atraindo ons
positivos, formam a camada difusa, que engloba a primeira; a CD resulta, na
realidade, da atrao de ons positivos, repulso eletrosttica de ons negativos
e difuso trmica (AWWA, 2000). A idia da DCE foi proposta por Helmholtz,
que desenvolveu o conceito de um sistema contendo cargas distribudas em dois
planos paralelos. Porm, com a movimentao trmica dos ons na gua, ocorre
certo grau de desordem, fazendo com que os ons sejam espalhados fora da
regio da superfcie carregada.
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Figura 4.2 Representao esquemtica da dupla camada eltrica nas vizinhanas de
uma interface slido-lquido (Di Bernardo, 2005).
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Figura 4.3 Configurao esquemtica da dupla camada eltrica (Di Bernardo, 2005).
A elevada concentrao de ons positivos prximos superfcie do colide
denominada camada de Stern, a partir da qual se forma a camada difusa, onde
a concentrao de ons menor. O potencial eltrico causado pela presena do
colide na gua diminui com a distncia, a partir da superfcie do mesmo, onde
denominado Potencial de Nernst (PN). Stern afirmou que h uma distncia
mnima entre a superfcie do colide e os ons de carga contrria, na qual opotencial eltrico decresce linearmente; em seguida, a diminuio resulta
exponencial, passando pela fronteira das camadas compacta e difusa, regio em
que o potencial eltrico, segundo Lyklema (1978), chamado de Potencial Zeta
(PZ). O conceito deste potencial est associado aplicao da diferena de
potencial em uma amostra de gua contendo colides negativos, de tal forma
que certa poro do meio, em torno da partcula, caminha junto com esta ao
eletrodo positivo, caracterizando o Plano de Cisalhamento (Di Bernardo, 2005).
O potencial zeta determinado pela medida da mobilidade das partculascoloidais atravs de uma clula, visto atravs de um microscpio (Eckenfelder,
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1989). O uso do valor do potencial zeta medido limitado porque vai variar com
a natureza dos componentes da soluo (Metcalf & Eddy, 2003).
Quando dois colides semelhantes se aproximam um do outro, ocorre
interao entre as camadas difusas, fazendo com que haja repulso em
decorrncia da fora eletrosttica entre os mesmos. A energia potencial de
repulso diminui com a distncia a partir da superfcie do colide.
Existem foras atrativas entre as partculas, denominadas foras de van
der Waals. Essas foras surgem de interaes dipolo-dipolo, dipolo-dipolo
induzido e de disperso e so dependentes da estrutura qumica e da topologia
das superfcies de interao.
A interao entre as foras de repulso de origem eltrica e de atrao de
van der Waals, entre partculas que se movem continuamente em decorrncia do
movimento Browniano, contribui para a estabilidade do sistema. A energia
potencial de repulso conhecida como o trabalho necessrio para a
aproximao de duas partculas coloidais semelhantes, partindo-se de uma
distncia infinita, e tanto maior quanto menor a distncia entre as mesmas.
Quando a fora inica pequena, a energia resultante de repulso e atinge um
valor mximo, denominado de barreira de energia, a uma distncia prxima
quela em que se tem o plano de cisalhamento. Por isso, o potencial zeta pode
fornecer informaes sobre o grau de estabilidade de um sistema coloidal. J
quando a fora inica grande, a energia resultante pode ser reduzida a ponto
de eliminar a barreira de energia, de modo que as partculas podem se
aproximar sem que haja repulso entre elas.
4.1.2Estabilizao estrica
O termo estrico refere-se ao arranjo dos tomos no espao. A adsoro
de polmeros na superfcie das partculas coloidais ocorre em decorrncia dainterao coulombica (carga-carga), por meio de ligaes de hidrognio,
interaes de van der Waals ou pela combinao destas. Os polmeros
adsorvidos sobre a superfcie das partculas afetam as interaes repulsivas e as
atrativas; no primeiro caso, a repulso da DCE aumentar se o polmero estiver
ionizado e com o mesmo sinal das partculas; no segundo caso, o polmero
adsorvido pode enfraquecer a fora de atrao. Os polmeros adsorvidos tanto
podem estabilizar como desestabilizar, dependendo principalmente da
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quantidade relativa de polmero e de partculas, da afinidade entre o polmero
com a partcula e a gua e do tipo e da concentrao de eletrlitos presentes.
As alas e as caudas (Figura 4.4) decorrentes da adsoro de um
polmero na superfcie da partcula coloidal geralmente so as partes
estabilizadoras da cadeia, uma vez que, dependendo do tipo de interao com
as partculas ou com a gua, podem acarretar o aparecimento de energia de
repulso, impedindo sua aglomerao. Os segmentos fixados superfcie so os
responsveis pelo ancoramento da cadeia polimrica, pois se ligam a stios
superficiais com os quais possuem afinidade.
Figura 4.4 Configurao esquemtica de polmeros adsorvidos na superfcie de
partculas coloidais (Di Bernardo, 2005).
Quando h interao entre as superfcies de duas partculas recobertas
por polmeros, que se encontram muito prximos, a repulso entre elas pode
ocorrer de duas formas, conforme mostra a Figura 4.5. Em uma delas, com a
coliso entre as partculas, cada camada de polmero pode ser comprimida,
reduzindo o volume disponvel para as molculas adsorvidas e restringindo o
movimento dos polmeros, causando assim, a repulso entre as partculas. Na
outra, e mais freqentemente, as camadas adsorvidas se entrelaam,aumentando a concentrao dos segmentos dos polmeros nessa regio; se os
segmentos estendidos dos polmeros forem muito hidroflicos, ocorrer,
preferencialmente, a reao entre eles e gua, tendendo repulso (Di
Bernardo, 2005).
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Figura 4.5 Possibilidade de interaes repulsivas decorrentes de polmeros adsorvidos
na superfcie de partculas coloidais (Di Bernardo, 2005).
4.2Mecanismos
A coagulao resulta de dois mecanismos bsicos: coagulao pericintica
e eletrocintica, na qual o potencial zeta reduzido por ons ou colides de
carga contrria a um nvel abaixo das foras atrativas de van der Waals, e
coagulao ortocintica, na qual as miscelas se agregam e formam blocos que
aglomeram as partculas coloidais. A adio de ctions com altas valncias
abaixa a carga da partcula e a distncia efetiva da dupla camada, desse modo
reduzindo o potencial zeta (Eckenfelder, 1989).
Porm, segundo Di Bernardo (2005), atualmente considera-se acoagulao como o resultado individual ou combinado da ao de quatro
mecanismos distintos:
4.2.1Compresso da dupla camada eltrica
A introduo de um eletrlito indiferente, ou seja, o qual no tem
caracterstica de hidrlise ou de adsoro (como sais simples, por exemplo,
cloreto de sdio), em um sistema coloidal causar aumento na densidade de
cargas na camada difusa e diminuir a esfera de influncia das partculas,
ocorrendo a coagulao por compresso da camada difusa. Concentraes
elevadas de ons positivos e negativos (fora inica grande) na gua acarretam
acrscimo do nmero de ons na camada difusa, que, para se manter
eletricamente neutra, necessariamente tem seu volume reduzido (diminuio da
espessura), de modo tal que as foras de van der Waals sejam dominantes,
eliminando a estabilizao eletrosttica.
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Dois aspectos devem ser destacados neste mecanismo de coagulao: i) a
quantidade de eletrlitos para conseguir a coagulao , praticamente,
independente da concentrao de colides na gua; ii) para qualquer quantidade
adicionada de eletrlitos impossvel reestabilizar as partculas coloidais, ou
seja, a reverso de carga das mesmas, que passa a ser positiva.
4.2.2Adsoro e neutralizao
A desestabilizao de uma disperso coloidal consiste nas interaes
entre coagulante-colide, coagulante-solvente e colide-solvente (Di Bernardo,
2005).
Como o coagulante se dissolve, os ctions servem para neutralizar a carganegativa do colide. Isso ocorre antes da formao visvel do floco, e a agitao
rpida efetiva nesta fase. Microflocos so ento formados os quais retm a
carga positiva na faixa cida devido a adsoro de H+. Esses microflocos
tambm servem para neutralizar e cobrir as partculas coloidais (Eckenfelder,
1989).
No caso de espcies hidrolisadas de alumnio ou de ferro ou de polmeros
sintticos catinicos, comum ocorrer adsoro especfica, causada pela
interao entre coagulante e colide.O mecanismo de adsoro-neutralizao de carga muito importante
quando o tratamento realizado atravs da tecnologia de filtrao direta, pois as
partculas desestabilizadas so retidas no meio granular dos filtros.
4.2.3Varredura
Dependendo da quantidade adicionada de coagulante, do pH da mistura e
da concentrao de alguns tipos de ons na gua, poder ocorrer a formao de
precipitados do tipo Al(OH)3ou Fe(OH)3. Em geral, os flocos obtidos com esse
mecanismo so maiores e sedimentam ou flotam mais facilmente que os flocos
obtidos com a coagulao realizada no mecanismo de adsoro e neutralizao
de cargas (Di Bernardo, 2005). A floculao aglomera os colides com o floco
hidratado do xido. Nesta fase, a superfcie de adsoro ativa. Colides no
inicialmente adsorvidos so removidos por emaranhamento no floco(Eckenfelder, 1989). Segundo Amirtharajah & Mills (1982), citados por Di
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Bernardo (2005), os mecanismos de coagulao por adsoro e neutralizao
de cargas e por varredura, quando utilizado sulfato de alumnio, podem ocorrer
segundo os caminhos indicados da Figura 4.6:
Figura 4.6 Caminhos para a coagulao por adsoro-neutralizao de carga e por
varredura utilizando sulfato de alumnio (Di Bernardo, 2005).
4.2.4Adsoro e formao de pontes
O mecanismo de adsoro e formao de pontes (interparticle bridging)
caracteriza-se por envolver o uso de polmeros de grandes cadeias moleculares
(massa molar > 106), os quais servem de ponte entre a superfcie qual estoaderidos e outras partculas (Di Bernardo, 2005).
4.3Tipos de coagulantes e suas propriedades
O coagulante mais popular em tratamento de guas residurias o sulfato
de alumnio (Al2(SO4)3.18H2O). Quando adicionado na gua em condiesalcalinas acontece a seguinte reao (Eckenfelder,1989):
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Al2(SO4)3+ 18H2O + 3Ca(OH)23CaSO42Al(OH)3+ 18H2O (4.4)
Para valores elevados da dosagem de sulfato de alumnio (geralmente
superiores a 30 g/L) e de pH entre, aproximadamente, 6 e 8, h formao do
precipitado Al(OH)3, porm, quando o pH inferior a cerca de 5,7, pode haver
formao e predominncia de espcies polimricas do tipo Al13O4(OH)274+.
13 Al3+ + 28 H2O Al13O4(OH)247+ + 32 H+ ( log K = 97) (4.5)
Quando o sulfato de alumnio adicionado gua, ocorrem reaes de
hidrlise, intermedirias, antes da formao do precipitado amorfo. Essas
reaes liberam prtons (H+), consumindo substncias que conferem
alcalinidade natural gua (se existente) da ordem de 1 mg/L de sulfato de
alumnio [Al2(SO4)3 14,3 H2O] para cada 0,5 mg/L de CaCO3 (Di Bernardo,
2005).
Sais de ferro tambm so comumente usados como coagulantes, no
entanto tm a desvantagem de apresentar um difcil manuseio. A formao de
hidrxido frrico insolvel produzida numa faixa de pH 3,0 13,0, como
observado na seguinte reao (Eckenfelder, 1989):
Fe3++ 3 OH-Fe(OH)3 (4.6)
A carga do floco positiva em condies cidas e negativas em condies
bsicas, e apresenta uma mistura de cargas numa faixa de pH 6,5 8,0.
A adio de alguns produtos qumicos pode melhorar a coagulao
promovendo o crescimento dos flocos e incrementando a velocidade de
sedimentao destes.
Slica ativada um polmero de cadeia curta, que serve para ligar aspartculas microfinas de alumnio hidratado, sua dosagem est na faixa de 5 a 10
mg/L. Polieletrlitos so polmeros de alto peso molecular os quais contm
grupos adsorventes, que formam ligaes entre partculas ou flocos com carga.
Grandes flocos (0,3 a 1 mm) so criados quando pequenas dosagens de
polieletrlitos (1 a 5 mg/L) so adicionadas conjuntamente com sulfato de
alumnio ou cloreto frrico.
Existem trs tipos de polieletrlitos:catinicos, os quais absorvem colides
ou flocos negativos, aninicos, os quais substituem os grupos aninicos em umapartcula coloidal e permitem a ligao de hidrognio entre o colide e o
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polmero, e um no inico, o qual absorve e forma flocos por ligaes de
hidrognio entre as superfcies slidas e os grupos polares no polmero. A
Tabela 4.1apresenta as aplicaes gerais dos coagulantes (Eckenfelder, 1989).
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Tabela 4.1 Aplicaes da coagulao qumica (Fonte: Eckenfelder, 1989).
Processo qumico Faixa de
dosagem (mg/L)
pH Come
Cal 150 500 9,0 11,0 Para coagulao de colides e re
guas residurias com baixa alca
Ca(OH)2 + Ca(HCO3)22CaCO3
MgCO3+ Ca(OH)2Mg(OH)2+ C
Al2(SO4)3 75 250 4,5 7,0 Para coagulao de colides e re
guas residurias com alta alcali
Al2(SO4)3 +6H2O2Al(OH)3 +3H2
FeCl3, FeCl2
FeSO4.7H2O
35 150
70 200
4,0 7,0
4,0 7,0
Para coagulao de colides e rem
guas residurias com alta alcali
FeCl3+ 3H2OFe(OH)3+3HCl
Polmeros catinicos 2 5 No muda Usado para coagulao de col
com um metal.
Polmeros aninicos e no
inicos
0,25 1,0 No muda Usado para aumentar a velocidad
aglomera os flocos para filtrao
Argila 3 20 No muda Usado para suspenses coloidais
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4.4Coagulao de efluentes industriais
Como mencionado anteriormente, a coagulao qumica pode ser usada
para clarificao de resduos industriais contendo partculas coloidais e slidos
em suspenso, os quais esto presentes na grande maioria dos efluentes
industriais.
Segundo Eckenfelder (1989), guas residurias da indstria do papel,
borracha sinttica, tintas, processamento de vegetais, etc., podem ser
efetivamente coaguladas com baixa dosagem de coagulante. A adio de slica
ou polieletrlitos ajuda na rpida formao e sedimentao dos flocos. A Tabela
4.2 sumariza os dados reportados no tratamento de guas residurias em
diferentes indstrias.
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Tabela 4.2 Coagulao qumica de guas residurias de diferentes indstrias (Fonte:
Eckenfelder, 1989; Al-Malack et al., 1999; Song et al., 2004).
Procedncia da
gua residuria
Parmetros
(mg/L)
Afluente Efluente Coagulante
Indstria de papel
DBO
SS
pH
127
350
-
68
15
6,7
Al2(SO4)3,
polieletrlito
Indstria de rolamento
de bolas
leos e graxas
SS
PO4
pH
302
544
222
10,3
28
40
8,5
7,1
Al2(SO4)3,
polieletrlito
Lavanderia comercial
DQO
DBO
ABS
PO4
pH
512
243
63
267
7,1
171
90
0,1
150
7,7
Cal, surfactante
catinico
Indstria de tintas
DQO
DBO
Slidos totais
pH
4340
1070
2550
-
178
90
446
4,5
Al2(SO4)3
Indstria de borracha
sinttica
DQO
DBO
570
85
100
15
Al2(SO4)3
Indstria txtil DQO
DQO
1570
1570
880
1084
Al2(SO4)3
Fe2(SO4)3
gua residuria
polimrica de uma
indstria qumica
DQO
DQO
7000
7000
70
700
FeCl3
Al2(SO4)3
Indstria de curtume
DQO
DQO
SS
SS
3300
3300
260
260
2079
2310
140
161
FeCl3
Al2(SO4)3
FeCl3
Al2(SO4)3
PUC-Rio-CertificaoDigitalN0511120/CA