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Espectroscopia de Emissão Óptica em Descarga Luminescente: Uma Ferramenta Poderosa para a Análise de Materiais e Processos WAI IV - 2004

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Espectroscopia de Emissão Ópticaem Descarga Luminescente:

Uma Ferramenta Poderosapara a Análise de Materiais e Processos

WAI IV - 2004

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Laboratório de Tratamento e Análise de SuperfíciesDivisão: EFO-LResponsável: Vladimir Henrique Baggio Scheid

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Colaboradores

Antônio Jorge AbdallaAudrey Moreira (doutorado)Bruna Carolina Ferreira (doutorado)Getúlio de VasconcelosJaime Watanuki

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Roteiro

•Princípio

•Instrumentação•Aplicações

•Introdução

•Indicadores & Parcerias

•Objetivos

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Objetivos

•Utilizar a EEODL na P&D (análise e desenvolvimento de materiais e processos) e na formação de RH

•Disponibilizar a EEODL como instrumento para análise de superfícies para o CTA e outras instituições

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GDOES é uma técnica quantitativa utilizada para análise de superfícies, que combina sputtering e emissão atômica.

GDOES – glow discharge optical emission spectroscopy

Análise de elementos químicos em materiais sólidos homogêneos

Análise de elementos químicos em recobrimentos

Obtenção de perfis de profundidade de elementos químicos

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Características:

Praticamente qualquer material sólido, compatível com vácuo, pode ser analisado (inclusive materiais isolantes)

Requer pouco trabalho na preparação das amostras

Tempo de amostragem curto (~30 min)

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Princípio

anodoJanela

amostra

O-ring

catodo

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Mecanismos básicos

Cathode

Potential distribution

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Forma da cratera

Centro Borda

Cratera em uma amostra de titânio

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Instrumentação

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GDOES – Montagem experimental

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GDOES – Detalhe do dispositivo

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Análise de composição química

Medida por GDOES da concentração de elementos em uma amostra de aço inoxidável certificada.

Elemento linha Certificado Medido SD

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Perfil de profundidade

Qualitativo Quantitativo

Tempo (s) Profundidade (µm)

Sina

l (u.

a.)

Con

cent

raçã

o (%

mas

sa)

Amostra de aço galvanizado

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Análise de processos termoquímicos a plasma

•Identificar os elementos e moléculas presentes no plasma

•Identificar e quantificar as reações dominantes no plasma

•Identificar e quantificar os processos no substrato

•Correlacionar com os parâmetros de processo:

•O perfil e a rugosidade das amostras

•As propriedades físico-químicas das camadas de compostos e difusão

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Indicadores (2003-2004)

Publicações:3 papers em revistas indexadas7 apresentações em congressos

Orientações:Um trabalho de Mestrado (em andamento)Dois trabalhos de Doutorado (em andamento)

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Projetos em andamento:CT-infra 03 processo 00/13448-0

Parcerias:IEAv/LEVCTA / ITA, AMRINPECETEC – Belo HorizonteFEG-UNESPDEMAR-FAENQUILUniversity of California, Berkeley, USAUniversidade do Minho, Portugal